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J-GLOBAL ID:200903012014071508

洗浄・消毒・創傷治癒に用いられる水の製造方法、その製造装置、及び洗浄・消毒・創傷治癒に用いられる水

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 宇高 克己
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003289669
Publication number (International publication number):2005058848
Application date: Aug. 08, 2003
Publication date: Mar. 10, 2005
Summary:
【課題】 pHが7に近い、即ち、弱酸性領域、或いは中性領域、若しくは弱アルカリ領域にあって、人体に対する悪影響が低く、しかしながら消毒(殺菌)能力、或いは創傷治癒能力が高い水を提供することである。【解決手段】 アノード室、カソード室、及び前記アノード室と前記カソード室との間に設けられた中間室を具備する電解装置を用いた電解処理により得たアノード電解水と、 アノード室、カソード室、及び前記アノード室と前記カソード室との間に設けられた中間室を具備する電解装置を用いた電解処理により得たカソード電解水とを含む水。【選択図】 図6
Claim (excerpt):
洗浄に用いられる水の製造方法であって、 アノード室、カソード室、及び前記アノード室と前記カソード室との間に設けられた中間室を具備する電解装置を用いた電解処理によりアノード電解水を得るアノード電解水生成工程と、 アノード室、カソード室、及び前記アノード室と前記カソード室との間に設けられた中間室を具備する電解装置を用いた電解処理によりカソード電解水を得るカソード電解水生成工程と、 前記アノード電解水生成工程で生成されたアノード電解水と前記カソード電解水生成工程で生成されたカソード電解水とを混合する混合工程 とを具備することを特徴とする水の製造方法。
IPC (5):
C02F1/46 ,  A61K33/00 ,  A61P17/00 ,  A61P17/02 ,  B08B3/08
FI (5):
C02F1/46 A ,  A61K33/00 ,  A61P17/00 ,  A61P17/02 ,  B08B3/08 Z
F-Term (38):
3B201AA46 ,  3B201BB89 ,  3B201BB92 ,  3B201BC01 ,  4C086AA01 ,  4C086AA02 ,  4C086AA04 ,  4C086HA01 ,  4C086HA08 ,  4C086MA01 ,  4C086MA04 ,  4C086MA17 ,  4C086MA63 ,  4C086NA14 ,  4C086ZA89 ,  4D061DA03 ,  4D061DB07 ,  4D061EA02 ,  4D061EB01 ,  4D061EB04 ,  4D061EB13 ,  4D061EB16 ,  4D061EB17 ,  4D061EB19 ,  4D061EB30 ,  4D061EB33 ,  4D061EB35 ,  4D061EB37 ,  4D061EB39 ,  4D061ED12 ,  4D061ED13 ,  4D061ED20 ,  4D061FA03 ,  4D061FA08 ,  4D061FA09 ,  4D061FA11 ,  4D061GB22 ,  4D061GC19
Patent cited by the Patent:
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