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J-GLOBAL ID：200903012098238852

X線管

Inventor：
大坂 尚久

About 大坂 尚久


Applicant, Patent owner：
理学電機株式会社

About 理学電機株式会社


Agent (1)： 鈴木 利之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001115691
Publication number (International publication number)：2002313266
Application date： Apr. 13, 2001
Publication date： Oct. 25, 2002
Summary：
【要約】【課題】 ターゲットの表面上の電子ビーム照射領域内に、目的の波長のX線を発生するX線発生部と、目的の波長のX線をほとんど発生しないベースとを存在させることにより、電子ビーム照射領域よりも小さい焦点サイズを作る。【解決手段】 回転ターゲット10は炭素製の中空円筒状のベース12と環状のX線発生材料14とからなる。環状のX線発生材料14は二つのベース部品の間に挟まれていて、その厚さは1〜10μmと非常に薄い。電子ビーム68が回転ターゲット10の外周面に照射されると、電子ビーム照射領域内に存在するX線発生材料14(例えば、タングステン)のみから目的の波長のX線が発生し、このX線ビーム70がX線取り出し窓72から取り出される。したがって、ターゲット上の焦点サイズの幅は1〜10μmとなる。炭素製のベース12からもX線が発生するが、これはベリリウム製のX線取り出し窓72で吸収されて、X線管の外部には出て行かない。
Claim (excerpt)：
ターゲットに電子ビームを照射して、ターゲットの表面上の電子ビーム照射領域からX線を発生させるX線管において、次の特徴を備えるX線管。(a)前記ターゲットは、前記電子ビームが照射されたときに目的の波長のX線を発生するX線発生部と、前記電子ビームが照射されても目的の波長のX線をほとんど発生しないベースとからなる。(b)前記電子ビーム照射領域の内部には前記X線発生部と前記ベースの両方が存在していて、前記電子ビーム照射領域の内部の前記X線発生部のみから目的の波長のX線が発生する。
IPC (4)：
H01J 35/08 ,  G21K 5/08 ,  H01J 35/10 ,  H05G 1/52
FI (6)：
H01J 35/08 C ,  H01J 35/08 B ,  G21K 5/08 X ,  H01J 35/10 C ,  H01J 35/10 H ,  H05G 1/52 A
F-Term (4)：
4C092AA01 ,  4C092AA13 ,  4C092AB30 ,  4C092BD05
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
  • X線発生装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-066050   Applicant：株式会社マツクサイエンス
  • X線発生装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-207163   Applicant：株式会社島津製作所
  • 特開昭52-135695
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