Pat

J-GLOBAL ID：200903012246628479

レジスト組成物

Inventor： 阿部 信紀 ,  田中 秀行 ,  杉本 達也
Applicant, Patent owner： 日本ゼオン株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995021250
Publication number (International publication number)：1996194308
Application date： Jan. 13, 1995
Publication date： Jul. 30, 1996
Summary：

【要約】【目的】 新規な感放射線性レジスト組成物を提供する。【構成】 樹脂結合剤(a)、活性化放射線に露光されると酸を生成する放射線感応性成分(b)および特定化合物(c)を含む放射線感応性組成物であって、特定化合物(c)が置換基が1以上である置換アリルオキシ基を含有する化合物であることを特徴とするレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

樹脂結合剤(a)、活性化放射線に露光されると酸を生成する放射線感応性成分(b)および特定化合物(c)を含む放射線感応性組成物であって、特定化合物(c)が置換基が1以上である置換アリルオキシ基を含有する化合物であることを特徴とするレジスト組成物。

IPC (4)：

G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-285187   Applicant：日本ゼオン株式会社
• 酸に不安定な溶解抑制剤、及びそれらに基づいたポジ型及びネガ型感光性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-263211   Applicant：チバ-ガイギーアクチエンゲゼルシヤフト
• レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-125006   Applicant：株式会社東芝