Pat
J-GLOBAL ID:200903012355687515

成膜装置及び成膜方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 西村 竜平 ,  佐藤 明子
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005333346
Publication number (International publication number):2007138247
Application date: Nov. 17, 2005
Publication date: Jun. 07, 2007
Summary:
【課題】膜品質を担保でき、しかも装置の小型化や低コスト化を図ることができる成膜装置を提供する。【解決手段】基板2を内部に収容する成膜室3と、その基板2から所定距離離間させて配置され、成膜原料を前記成膜室3内に液体状態で噴射する噴射弁4と、を備えてなり、前記噴射弁4に設けられた噴射孔Hの横断面形状が、短手方向にはほぼ一定寸法であるとともに、長手方向には奥から出口に近づくほど徐々に拡開し、出口近傍において少なくとも細長い帯状をなすように構成した。【選択図】図3
Claim (excerpt):
基板を内部に収容する成膜室と、その基板から所定距離離間させて配置され、成膜原料を前記成膜室内に液体状態で噴射する噴射弁と、を備えてなり、 前記噴射弁に設けられた噴射孔の横断面形状が、短手方向にはほぼ一定寸法であるとともに、長手方向には入口から出口に近づくほど徐々に拡開し、出口近傍において少なくとも細長い帯状をなすように構成されている成膜装置。
IPC (2):
C23C 16/455 ,  H01L 21/31
FI (2):
C23C16/455 ,  H01L21/31 B
F-Term (12):
4K030AA11 ,  4K030AA14 ,  4K030BA42 ,  4K030EA03 ,  4K030EA04 ,  4K030EA05 ,  4K030FA10 ,  5F045AA04 ,  5F045AB31 ,  5F045AC09 ,  5F045AC11 ,  5F045EF02
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2) Cited by examiner (2)

Return to Previous Page