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J-GLOBAL ID:200903012570329611

誘導結合型プラズマエッチング装置のRFピークトゥピーク電圧を能動的に制御する装置および方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 五十嵐 孝雄 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001095019
Publication number (International publication number):2001345311
Application date: Mar. 29, 2001
Publication date: Dec. 14, 2001
Summary:
【要約】【課題】 TCP窓を過度に腐食させることなく導電性の反応生成物の堆積を防止する。【解決手段】 誘電結合型プラズマエッチング装置は、チャンバと、チャンバ頂部の開口部を封止するための窓とを備える。窓は、チャンバの内部領域に露出した内面を有する。ファラデーシールドとして機能する金属板は、窓の上方に窓から離れて設置される。コイルは、窓の内面がスパッタリングされるのを最適に低減し、それと実質同時に、窓の内面上にエッチング副産物が堆積されるの防ぐような、ピークトゥピーク電圧を生成するように構成された接続位置において、金属板に導電結合される。別の実施形態において、この装置は、金属板に外部からピークトゥピーク電圧を印加するためのコントローラを備える。コントローラは、発振回路と、整合回路と、RF電源と、印加されたピークピーク電圧をモニタリングするためのフィードバック制御とを備える。
Claim (excerpt):
誘電結合型プラズマエッチング装置であって、チャンバと、前記チャンバの内部領域に露出された内面を有し、前記チャンバ頂部の開口部を封止するための窓と、前記窓の上方に前記窓から離れて配置された金属板と、前記金属板の上方に前記金属板から離れて配置され、前記窓の前記内面がスパッタリングされるのを最適に低減すると共に、実質的に同時に前記窓の前記内面上にエッチング副生成物が堆積されるの防ぐピークトゥピーク電圧を生成するように構成された接続位置において前記金属板に導電結合されるコイルとを備える、誘電結合型プラズマエッチング装置。
IPC (3):
H01L 21/3065 ,  B01J 19/08 ,  H05H 1/46
FI (3):
B01J 19/08 H ,  H05H 1/46 L ,  H01L 21/302 B
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

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