逆X線光電子ホログラフィー装置及びその測定方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner： , ,
Agent (4)：重信和男 , 清水英雄 , 高木祐一 , 中野佳直
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005118762
Publication number (International publication number)：2006300558
Application date： Apr. 15, 2005
Publication date： Nov. 02, 2006
Summary：

【課題】本発明は、エネルギー制御や収束が容易で、コントラスの良いホログラムが得られる逆X線光電子ホログラフィー装置及びその測定方法を提供することを目的とする。【解決手段】電子線を測定試料に照射し、該測定試料の電子線に対する姿勢を変えることにより電子線の入射角及び回転角を変化させ、該測定試料が励起されて放出される特性X線の強度変化を特定元素の原子周りの原子分解能ホログラムとして記録する逆X線光電子ホログラフィー測定方法において、該測定試料の原子の特性X線として強度を検知することにより、該測定試料に入射する電子が特定X線発生原子に到達する電子波としてのホログラフィーにおける参照波及び近接原子によって散乱された電子波としての物体波が発生し、前記参照波、物体波が合成されることで干渉パターンが形成される電子線強度のモニターとする。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

電子線を測定試料に照射する手段と、該測定試料の電子線に対する姿勢を変えることにより電子線の入射角及び回転角を変化させる手段と、該測定試料が励起されて放出される特性X線の強度変化を特定元素の原子周りの原子分解能ホログラムとして記録する手段とを有することを特徴とする逆X線光電子ホログラフィー装置。

IPC (1)：

G01N 23/225

FI (1)：

G01N23/225

F-Term (13)：

2G001AA03 , 2G001BA05 , 2G001CA01 , 2G001DA01 , 2G001EA02 , 2G001GA01 , 2G001GA13 , 2G001HA07 , 2G001HA09 , 2G001KA02 , 2G001KA12 , 2G001LA11 , 2G001MA05

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

光電子測定方法及び光電子測定システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-153250 Applicant：東京大学長

Cited by examiner (1)

蛍光X線ホログラフィー装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-079541 Applicant：東北大学長

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

“Atomic String Holography”
“High-resolution imaging on a field emission TEM”
“High-resolution imaging on a field emission TEM”

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