Pat
J-GLOBAL ID：200903012803738932
電子線用化学増幅ネガ型レジスト組成物
Inventor：
,
,
,
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994295204
Publication number (International publication number)：1996152717
Application date： Nov. 29, 1994
Publication date： Jun. 11, 1996
Summary：
【要約】【目的】 高感度及び高解像度の電子線用化学増幅ネガ型レジスト組成物を提供する。【構成】 アルカリ可溶性樹脂、酸発生剤及び架橋剤からなる電子線用化学増幅ネガ型レジスト組成物において、アルカリ可溶性樹脂がその主成分として部分的にアルキルエーテル化されたポリビニルフェノールを含有し、酸発生剤がN-ヒドロキシイミド化合物のスルホン酸エステルであり、架橋剤がメチロール基又はメチロールエーテル基を含む化合物であることを特徴とする電子線用化学増幅ネガ型レジスト組成物。
Claim (excerpt)：
アルカリ可溶性樹脂、酸発生剤及び架橋剤からなる電子線用化学増幅ネガ型レジスト組成物において、アルカリ可溶性樹脂がその主成分として部分的にアルキルエーテル化されたポリビニルフェノールを含有し、酸発生剤がN-ヒドロキシイミド化合物のスルホン酸エステルであり、架橋剤がメチロール基又はメチロールエーテル基を含む化合物であることを特徴とする電子線用化学増幅ネガ型レジスト組成物。
IPC (3)：
G03F 7/038 505
, C08F 2/50 MDN
, G03F 7/004 503
Cited by examiner (2)
-
ネガ型感光性組成物
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平3-190059
Applicant：三菱化成株式会社
-
ネガ型フォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平5-005797
Applicant：住友化学工業株式会社
Return to Previous Page
