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J-GLOBAL ID：200903012987780103

X線用光学素子

Inventor： 三浦 隆幸 ,  安藤 謙二 ,  金沢 秀宏 ,  松本 誠謙 ,  辰巳 俊平 ,  福井 慎次 ,  永田 香子 ,  寺西 康治
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (2)： 西山 恵三 ,  内尾 裕一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008278429
Publication number (International publication number)：2009156863
Application date： Oct. 29, 2008
Publication date： Jul. 16, 2009
Summary：

【課題】 基板変形の原因となる膜応力を抑制するための応力緩衝層を設ける際に、応力緩衝層によって生じる膜厚ムラを低減する。【解決手段】 基板と、軟X線波長領域の光に対して反射特性を有する第1の多層膜と、前記第1の多層膜と前記基板の間に設けられ、第一の多層膜の膜応力を低減する第2の多層膜とを有するX線用光学素子であって、 前記第2の多層膜は周期構造を有し、前記周期構造の単位周期膜厚が、7nmの2以上の整数倍の90%以上110%未満であるX線用光学素子、を用いる。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

基板と、軟X線波長領域の光に対して反射特性を有する第1の多層膜と、前記第1の多層膜と前記基板の間に設けられ、第1の多層膜の膜応力を低減する第2の多層膜とを有するX線用光学素子であって、 前記第2の多層膜は周期構造を有し、前記周期構造の単位周期膜厚が、7nmの2以上の整数倍の90%以上110%未満であるX線用光学素子。

IPC (5)：

G21K 1/06 ,  G02B 5/28 ,  G02B 5/26 ,  G03F 1/16 ,  H01L 21/027

FI (7)：

G21K1/06 B ,  G02B5/28 ,  G02B5/26 ,  G03F1/16 A ,  H01L21/30 531A ,  H01L21/30 531M ,  G21K1/06 C

F-Term (8)：

2H048FA07 ,  2H048FA18 ,  2H048FA22 ,  2H048FA24 ,  2H095BA10 ,  2H095BC27 ,  5F046GB01 ,  5F046GD10

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 多層フィルムの応力により生じる光学素子の変形を調節する方法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2000-532776   Applicant：ザリージェンツオブザユニバーシティオブカリフォルニア
• 多層光学素子
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2000-572698   Applicant：ザリージェンツオブザユニバーシティオブカリフォルニア