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J-GLOBAL ID：200903013211509724

アパタイトのマイクロパターン形成方法とこの方法で形成されたアパタイトシート並びにその製造方法

Inventor： 末次 寧 ,  ドミニク・ウォルシュ ,  スティーブン・マン ,  生駒 俊之 ,  田中 順三
Applicant, Patent owner： 独立行政法人物質・材料研究機構
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005076053
Publication number (International publication number)：2006256900
Application date： Mar. 16, 2005
Publication date： Sep. 28, 2006
Summary：

【課題】 表面に凹凸の微細パターンや従来技術では作製が困難な気孔率の大小が周期的に変化する構造を極めて簡便に形成させることができ、細胞培養基板や組織再生工学用足場材料として有用な、アパタイトのマイクロパターン形成方法とこの方法で形成されたアパタイトシート並びにその製造方法を提供する。【解決手段】 リン酸イオンおよびカルシウムイオンを含む酸性水溶液をゲル化し、次いでこのゲルの外部からアルカリ性水溶液を拡散させ、pH上昇に伴う溶解度低下により沈殿を析出させて、20〜200μm周期のアパタイトの縞状パターンをゲル中に形成させる。【選択図】 図3

Claim (excerpt)：

リン酸イオンおよびカルシウムイオンを含む酸性水溶液をゲル化し、次いでこのゲルの外部からアルカリ性水溶液を拡散させ、pH上昇に伴う溶解度低下により沈殿を析出させて、20〜200μm周期のアパタイトの縞状パターンをゲル中に形成させることを特徴とするアパタイトのマイクロパターン形成方法。

IPC (4)：

C01B 25/32 ,  A61L 27/00 ,  C12M 3/00 ,  C12N 5/06

FI (4)：

C01B25/32 B ,  A61L27/00 U ,  C12M3/00 A ,  C12N5/00 E

F-Term (24)：

4B029AA08 ,  4B029AA21 ,  4B029BB11 ,  4B029CC02 ,  4B029GB07 ,  4B029GB09 ,  4B065AA90X ,  4B065BC46 ,  4B065CA44 ,  4C081BA17 ,  4C081BB04 ,  4C081BC01 ,  4C081CD34 ,  4C081CF032 ,  4C081DA01 ,  4C081DA02 ,  4C081DB05 ,  4C081DB06 ,  4C081DB07 ,  4C081DC03 ,  4C081DC06 ,  4C081EA02 ,  4C081EA04 ,  4C081EA06

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• アパタイト構造体、及びアパタイトパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-104926   Applicant：八尾健, ティーアンドティーアソシエイツ有限会社
• インクジェットを用いる構造体およびパターンの形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-225933   Applicant：クラスターテクノロジー株式会社, 株式会社ミレニアムゲートテクノロジー, 八尾健