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J-GLOBAL ID：200903094835194809

インクジェットを用いる構造体およびパターンの形成方法

Inventor： 安達 稔 ,  武内 勇 ,  八尾 健 ,  小澤 尚志
Applicant, Patent owner： クラスターテクノロジー株式会社 ,  株式会社ミレニアムゲートテクノロジー ,  八尾 健
Agent (1)： 南條 博道
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002225933
Publication number (International publication number)：2004066360
Application date： Aug. 02, 2002
Publication date： Mar. 04, 2004
Summary：

【課題】複雑な構造を有する構造体の新規な製造法を提供すること。【解決手段】インクジェットを用いて固相の析出を誘起する物質を含む液を噴射し、該固相の析出を誘起する物質を基材上の所望の位置に配置する工程;該固相の析出を誘起する物質を析出流体と接触させて、該基材上で該固相を析出させる工程;を含む、構造体またはパターンの形成方法が提供される。この構造体の形状などは、固相の析出を誘起する物質の配置の位置、密度などにより決定される。従って、インクジェットを用いることによって、固相の析出を誘起する物質を基材の所望に位置に直接配置することにより、所望の構造体の形状を有するリン酸カルシウム類を含む構造体が、簡便に得られる。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

インクジェットを用いて固相の析出を誘起する物質を含む液を噴射し、該固相の析出を誘起する物質を基材上の所望の位置に配置する工程;該固相の析出を誘起する物質を析出流体と接触させて、該基材上で該固相を析出させる工程;を含む、構造体またはパターンの形成方法。

IPC (1)：

B81C1/00

FI (2)：

B81C1/00 ,  B41J3/04 101Z

F-Term (8)：

2C056FB01 ,  2C056FB09 ,  2C056FB10 ,  2C056HA17 ,  4C081AB02 ,  4C081CF011 ,  4C081DA01 ,  4C081EA01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 薄膜パタ-ンの製造方法および微細構造体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-099930   Applicant：セイコーエプソン株式会社
• アパタイト構造体、及びアパタイトパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-104926   Applicant：八尾健, ティーアンドティーアソシエイツ有限会社
• 微小機械の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-073707   Applicant：日本電気株式会社
• 液体噴射ヘッドユニット及び液体噴射ヘッド
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-208502   Applicant：セイコーエプソン株式会社