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J-GLOBAL ID：200903013329099253

プラントワイド最適プロセス制御装置

Inventor：
山 中 理

About 山 中 理

, 
小 原 卓 巳

About 小 原 卓 巳

, 
長 岩 明 弘

About 長 岩 明 弘

, 
堤 正 彦

About 堤 正 彦

, 
本 木 唯 夫

About 本 木 唯 夫


Applicant, Patent owner：
株式会社東芝

About 株式会社東芝


Agent (5)： 吉武 賢次 ,  橘谷 英俊 ,  佐藤 泰和 ,  吉元 弘 ,  川崎 康
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003354865
Publication number (International publication number)：2004171531
Application date： Oct. 15, 2003
Publication date： Jun. 17, 2004
Summary：
【課題】 従来のPID制御などの制御方式をシームレスに拡張しプラントを安定して制御できるプラントワイドな最適制御装置を提供する。【解決手段】 プロセスセンサによって得られるプロセス計測値に基づいてアクチュエータを 動作させ、プロセスのダイナミックな変動を、望ましい特性を持つようにローカル制御部が補償する。プロセスの外部入力の物質量やエネルギー量などの保存量の保存則に関する静的な制約条件を設定する制約条件設定部と、運転コストや複数の制御性能を評価する評価関数を設定できる最適評価関数設定部と、制約条件設定部によって設定された制約条件を入力し、最適評価関数設定部で設定した評価関数に基づいて、ローカル制御部の最適な目標値を供給する最適目標値演算部とを備える。【選択図】 図2
Claim (excerpt)：
対象プロセスの状態を計測することのできる少なくとも一つのプロセスセンサと、対象プロセスの状態を変化させることができる少なくとも一つのアクチュエータと、対象プロセスヘの外部入力と、を有するプロセスを制御するプラントワイド最適プロセス制御装置において、 前記プロセスセンサによって得られるプロセス計測値に基づいて前記アクチュエータを動作させ、プロセスのダイナミックな変動を望ましい特性を持つように補償するローカル制御部と、少なくとも前記プロセスの外部入力の物質量やエネルギー量などの保存量の保存則に関する静的な制約条件を設定する制約条件設定部と、運転コストや複数の制御性能を評価する評価関数を設定する最適評価関数設定部と、前記制約条件設定部によって設定された制約条件を入力し、前記最適評価関数設定部で設定された評価関数に基づいて、前記ローカル制御部の最適な目標値を供給する最適目標値演算部と、を備えたことを特徴とするプラントワイド最適プロセス制御装置。
IPC (5)：
G05B13/02 ,  G01D21/00 ,  G05B13/04 ,  G05B23/02 ,  G06F17/60
FI (5)：
G05B13/02 J ,  G01D21/00 Q ,  G05B13/04 ,  G05B23/02 V ,  G06F17/60 110
F-Term (28)：
2F076BA13 ,  2F076BA14 ,  2F076BA17 ,  2F076BD13 ,  2F076BD14 ,  2F076BE04 ,  2F076BE07 ,  2F076BE08 ,  2F076BE09 ,  2F076BE17 ,  5H004GA17 ,  5H004GA30 ,  5H004GB08 ,  5H004KB02 ,  5H004KB04 ,  5H004KB06 ,  5H004KB31 ,  5H004KC10 ,  5H004KC12 ,  5H004KC34 ,  5H004LA15 ,  5H004LA18 ,  5H223AA01 ,  5H223BB01 ,  5H223CC01 ,  5H223DD09 ,  5H223EE06 ,  5H223FF05
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2) Cited by examiner (17)
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