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J-GLOBAL ID：200903013443924817

半導体受光素子とその製造方法、およびそれを用いた光センサ

Inventor：
八木 茂

About 八木 茂


Applicant, Patent owner：
富士ゼロックス株式会社

About 富士ゼロックス株式会社


Agent (1)： 中島 淳 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998017203
Publication number (International publication number)：1999214737
Application date： Jan. 29, 1998
Publication date： Aug. 06, 1999
Summary：
【要約】【課題】 ?@必要な波長領域の光情報を同時に、かつ任意に取り出し可能な、?A紫外・可視全域で、高変換効率で光電変換が可能な、或いは、?B広範囲の光学ギャップが自由に選べ、優れた半導体特性を有し、新しいオプトエレクトロニクス材料となり得る半導体受光素子と、該半導体受光素子を安全に、かつ、低コストで製造できる半導体受光素子の製造方法、及び該半導体受光素子を用いた光センサを提供すること。【解決手段】 少なくとも導電性基板20上に、Al,GaおよびInの内の少なくとも1以上の元素と、チッ素と、0.5〜50at%の水素とを含む非単結晶光半導体層21が形成され、さらにその上に透明導電性電極22が配されてなることを特徴とする半導体受光素子と、その製造方法、及び該半導体受光素子を用いた光センサである。
Claim (excerpt)：
少なくとも導電性基板上に、Al,GaおよびInの内の少なくとも1以上の元素と、チッ素と、0.5〜50at%の水素とを含む非単結晶光半導体層が形成され、さらにその上に透明導電性電極が配されてなることを特徴とする半導体受光素子。
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (10)
  • 特開平2-192772
  • 特開平2-192770
  • 特開平2-194563
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Cited by examiner (7)
  • 特開平2-192772
  • 特開平2-192770
  • 特開平2-194563
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