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J-GLOBAL ID：200903013651419433

光学用ポリイミド基板及びその製造方法

Inventor： 佐々木 重邦 ,  松浦 徹 ,  小勝負 信建 ,  丸野 透 ,  山田 典義 ,  山本 二三男
Applicant, Patent owner： 日本電信電話株式会社
Agent (1)： 中本 宏 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997187194
Publication number (International publication number)：1999023870
Application date： Jun. 30, 1997
Publication date： Jan. 29, 1999
Summary：

【要約】【課題】 光学特性の改善された光学用ポリイミド基板及びその製造方法を提供する。【解決手段】 ポリイミド基板の表面の平均粗さが50nm以下である光学用ポリイミド基板。ポリイミド基板の表面に平均粗さが50nm以下である膜が形成されている光学用ポリイミド基板。ポリイミド基板の表面に膜を形成した後、研磨により平均粗さが50nm以下である表面にする工程を含む光学用ポリイミド基板の製造方法。【効果】 偏波依存性、光損失共小さいポリイミド光導波路が作製できる。

Claim (excerpt)：

ポリイミド基板の表面の平均粗さが50nm以下であることを特徴とする光学用ポリイミド基板。

IPC (3)：

G02B 6/12 ,  B29C 59/00 ,  C08J 5/00 CFG

FI (3)：

G02B 6/12 N ,  B29C 59/00 C ,  C08J 5/00 CFG

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 低複屈折ポリイミド膜の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-187652   Applicant：日本電信電話株式会社
• プラスチック光導波路
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-163321   Applicant：日本電信電話株式会社
• ニオブ酸リチウム単結晶薄膜
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-043945   Applicant：イビデン株式会社
• 特開平4-204525
  
• 特開昭64-026806