低複屈折ポリイミド膜の製造方法

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：中本宏 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995187652
Publication number (International publication number)：1997015608
Application date： Jul. 03, 1995
Publication date： Jan. 17, 1997
Summary：

【要約】【課題】偏波依存性の小さな低複屈折ポリイミド膜の製造方法を提供する。【解決手段】基板上に形成されるポリイミド膜において、基板としてポリイミド板を用い、該基板表面にポリアミド酸溶液又はポリイミド溶液を均一に塗布し、その後熱処理を行う低複屈折ポリイミド膜の製造方法。その一般的製法としては、ポリイミド板上にポリアミド酸溶液又はポリイミド溶液をスピンコート法、ディップ法等により、均一な厚さに塗布する。その後溶媒の揮発のため加熱する。ポリアミド酸溶液を用いる場合はイミド化に必要な加熱を更に行う。【効果】シリコン基板やアルミニウム基板上で作製したポリイミド膜に比較して複屈折は小さく、この膜を用いて光導波路を作製すれば偏波依存性の小さなポリイミド光導波路が作製できる。

Claim (excerpt)：

基板上に形成されるポリイミド膜において、基板としてポリイミド板を用い、該基板表面にポリアミド酸溶液又はポリイミド溶液を均一に塗布し、その後熱処理を行うことを特徴とする低複屈折ポリイミド膜の製造方法。

IPC (3)：

G02F 1/1337 525 , B32B 27/34 , C08G 73/10 NTF

FI (3)：

G02F 1/1337 525 , B32B 27/34 , C08G 73/10 NTF

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

プラスチック光導波路
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-163321 Applicant：日本電信電話株式会社
特開平4-239037
特開平4-235034

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