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J-GLOBAL ID:200903013680084378
フォトレジスト組成物用の成膜性樹脂を製造する方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (4):
江崎 光史
, 三原 恒男
, 奥村 義道
, 鍛冶澤 實
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2002582086
Publication number (International publication number):2004523806
Application date: Mar. 19, 2002
Publication date: Aug. 05, 2004
Summary:
本発明は、フォトレジスト組成物に使用するのに好適な成膜性樹脂を製造する方法であって、次の段階、すなわち(a)溶剤中の成膜性樹脂の溶液を用意する段階、この際、前記成膜性樹脂は、シクロオレフィンまたは酸感応性アクリレートもしくはメタクリレートを含む少なくとも一種のモノマーを重合することによって製造されたものである; (b)次の二種のフィルターシートのうちの少なくとも一方を用意する段階: (i)粒子状フィルター助材(好ましくは酸洗浄されているもの)及び約2〜約10ミクロンの平均粒度を有する粒子状イオン交換樹脂を不動化された状態で含む自己支持性繊維性マトリックスからなるフィルターシート、なお、前記粒子状フィルター助材及びイオン交換樹脂粒子は、上記マトリックスの断面中に実質的に均一に分布されている; 及び/または(ii)粒子状フィルター助材及びバインダー樹脂を不動化された状態で含む自己支持性繊維性(好ましくはセルロース性)マトリックスからなるフィルターシート: なお、前記フィルターシートは、好ましくは、埋込されたイオン交換樹脂を含まず、そして0.05〜0.5μmの平均孔サイズを有する; (c)段階a)の溶剤で段階b)のフィルターシートを濯ぐ段階; 及び(d) 段階(c)の濯ぎしたフィルターシートに上記成膜性樹脂の溶液を通す段階、を含む上記方法。また、本発明は、フォトレジスト組成物の製造方法であって、1)上記方法によって製造された成膜性樹脂、2) フォトレジスト組成物を感光性化するのに十分な量の感光性成分、及び場合によっては3)追加の適当なフォトレジスト溶剤を含む混合物を供することを含む上記方法も提供する。更にまた、本発明は、基体上に像を形成することによって微細電子デバイスを製造する方法であって、a)上記方法によって製造されたフォトレジスト組成物を用意し、b)その後、段階a)のフォトレジスト組成物で適当な基体をコーティングし、c)その後、このコーティングされた基体を、実質的に全てのフォトレジスト溶剤が除去されるまで熱処理し、そしてd)このフォトレジスト組成物を像様露光し、次いでこのフォトレジスト組成物の像様露光された領域を適当な現像剤で除去することを含む上記方法も提供する。
Claim (excerpt):
フォトレジスト組成物に使用するのに好適な成膜性樹脂を製造する方法であって、次の段階、すなわち
(a) 溶剤中の成膜性樹脂の溶液を用意する段階、なおこの際、前記成膜性樹脂は、シクロオレフィンまたは酸感応性アクリレートもしくはメタクリレートモノマーを含む少なくとも一種のモノマーを重合することによって製造されたものである;
(b) 次の二種のフィルターシートのうちの少なくとも一方を用意する段階、
(i) 粒子状フィルター助材及び粒子状イオン交換樹脂を不動化された状態で含む自己支持性の繊維性マトリックスからなるフィルターシート; この際、前記イオン交換樹脂は、約2〜約10マイクロメータ(μm)の平均粒度を有し、そして前記粒子状フィルター助材及びイオン交換樹脂粒子は、上記マトリックスの断面中に実質的に均一に分布されている; 及び/または
(ii) 粒子状フィルター助材及びバインダー樹脂を不動化された状態で含む自己支持性繊維性マトリックスからなるフィルターシート; この際、前記フィルターシートは、0.05〜0.5μmの平均孔サイズを有する、
(c) 段階a)の溶剤で段階b)のフィルターシートを濯ぐ段階、及び
(d) 段階(c)の濯ぎしたフィルターシートに上記成膜性樹脂の溶液を通す段階、
を含み、それによってフォトレジスト組成物に使用するのに好適な成膜性樹脂を製造する上記方法。
IPC (5):
G03F7/26
, C08F220/10
, C08F232/08
, G03F7/039
, H01L21/027
FI (5):
G03F7/26
, C08F220/10
, C08F232/08
, G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
F-Term (37):
2H025AA00
, 2H025AB16
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BJ10
, 2H025CB08
, 2H025CB10
, 2H025CB14
, 2H025CB41
, 2H025FA01
, 2H096AA25
, 2H096BA11
, 2H096LA30
, 4J100AK31R
, 4J100AK32R
, 4J100AL03P
, 4J100AL08P
, 4J100AL24S
, 4J100AR09Q
, 4J100AR11Q
, 4J100AR11T
, 4J100BA03P
, 4J100BA03Q
, 4J100BA03T
, 4J100BA11P
, 4J100BA15Q
, 4J100BA15T
, 4J100BA16Q
, 4J100BA72P
, 4J100BB11T
, 4J100BC09P
, 4J100BC53P
, 4J100CA03
, 4J100CA06
, 4J100JA38
Patent cited by the Patent:
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