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J-GLOBAL ID：200903056892713430

遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor：
佐藤 健一郎

About 佐藤 健一郎

, 
児玉 邦彦

About 児玉 邦彦

, 
青合 利明

About 青合 利明


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 萩野 平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999152861
Publication number (International publication number)：2000338680
Application date： May. 31, 1999
Publication date： Dec. 08, 2000
Summary：
【要約】【課題】 250nm以下、特に220nm以下の露光光源の使用に好適であり、250nm以下、特に220nm以下の露光光源の使用時に、高解像力を有し、かつパターンのエッジラフネスが改良されたポジ型感光性組成物を提供することである。【解決手段】 活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、特定の多環型の脂環式基を有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解性を増大させる基とを有する樹脂、及び特定の化合物を含有するポジ型感光性組成物。
Claim (excerpt)：
(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、(B)下記一般式(I)で表される繰り返し単位を有し、かつ酸の作用により分解し、アルカリに対する溶解性が増大する樹脂、及び(C)下記一般式(CI)又は(CII)で表される化合物を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。【化1】式(I)中:R1は、水素原子、ハロゲン原子又は1〜4個の炭素原子を有する直鎖もしくは分岐のアルキル基を表す。R2〜R4は、各々独立に、水素原子又は水酸基を表す。ただし、R2〜R4のうち少なくとも1つは、水酸基を表す。【化2】式(CI)中、Xは、-O-、-S-、-N(R53)-、又は単結合を表し、R51、 R52、 R53は、各々独立に水素原子又はアルキル基を表し、R′は-COOR′で酸分解性基を構成する基を表す。Rは、有橋式炭化水素基又はナフタレン環を含むn1価の残基を表す。式(CII)中、R60は水素原子又はアルキル基を表し、R61は-O-R61で酸分解性基を構成する基を表し、m1 、n1 、p1 は、各々独立に、1〜4の整数を示し、q1は0〜10の整数を示す。
IPC (3)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/027 502 ,  C08F 20/12
FI (3)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/027 502 ,  C08F 20/12
F-Term (41)：
2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA09 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA02Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA16P ,  4J100BA40P ,  4J100BA41P ,  4J100BB01P ,  4J100BB03P ,  4J100BB05P ,  4J100BB07P ,  4J100BC01P ,  4J100BC01Q ,  4J100BC04P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC07P ,  4J100BC07Q ,  4J100BC08P ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12P ,  4J100BC12Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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