ポジトロン断層撮影法および該方法に用いるポジトロン放出化合物

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (4)：植木久一 , 菅河忠志 , 二口治 , 伊藤浩彰
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006041545
Publication number (International publication number)：2007217370
Application date： Feb. 17, 2006
Publication date： Aug. 30, 2007
Summary：

【課題】本発明は、具体的な脳疾患の診断に適用することができるポジトロン断層撮影法と、当該方法に用いるポジトロン放出化合物を提供することを目的とするものである。【解決手段】本発明方法は、ポジトロン放出源の分布と集積度を測定するポジトロン断層撮影法において、当該ポジトロン放出源として、化合物(I)を用いることを特徴とする。[式中、Rはポジトロン放出能を有するC1-6アルキル基またはハロゲン原子基を示す。]【選択図】なし

Claim (excerpt)：

ポジトロン放出源の分布と集積度を測定するポジトロン断層撮影法において、当該ポジトロン放出源として、化合物(I)を用いることを特徴とするポジトロン断層撮影法。

IPC (3)：

A61K 51/00 , G01T 1/161 , C07D 471/08

FI (3)：

A61K49/02 A , G01T1/161 A , C07D471/08

F-Term (14)：

2G088EE02 , 4C065AA09 , 4C065BB14 , 4C065DD02 , 4C065EE02 , 4C065HH01 , 4C065JJ01 , 4C065KK01 , 4C065LL01 , 4C065PP03 , 4C085HH03 , 4C085KA26 , 4C085KB56 , 4C085LL13

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

ポジトロン断層撮影装置用検出器
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-058716 Applicant：浜松ホトニクス株式会社
ポジトロン断層撮影装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-192560 Applicant：科学技術庁金属材料技術研究所長
1,4-ジアザビシクロ[3.2.2]ノナン-4-カルボキシレートおよびカルボキサミド誘導体、治療におけるその製造ならびに使用
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2000-608013 Applicant：サノフィ-サンテラボ

Cited by examiner (4)

1,4-ジアザビシクロ[3.2.2]ノナン-4-カルボキシレートおよびカルボキサミド誘導体、治療におけるその製造ならびに使用
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2000-608013 Applicant：サノフィ-サンテラボ
CNS障害及び他の障害治療用医薬組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-029074 Applicant：ファイザー・プロダクツ・インク
CNS-モジュレーターとしての新規ヘテロアリール-ジアザビシクロアルカン類
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2003-500090 Applicant：ニューロサーチアクティーゼルスカブ

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (10)

Expert Opinion Therapeutic Patents, 2005, Vol.15, No.9, pp 1221-1239
Expert Opinion Therapeutic Patents, 2005, Vol.15, No.9, pp 1221-1239
Behavioural Pharmacology, 2005, Vol.16, Suppl.1, p S47

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