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J-GLOBAL ID：200903013986883878

画像パターン検査装置

Inventor：
大西 浩之

About 大西 浩之


Applicant, Patent owner：
大日本スクリーン製造株式会社

About 大日本スクリーン製造株式会社


Agent (1)： 小林 良平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994302888
Publication number (International publication number)：1996136466
Application date： Nov. 10, 1994
Publication date： May. 31, 1996
Summary：
【要約】【目的】 パターンの位置合わせをせず、かつ、基準画像パターンを記憶せずに、種々の画像パターンを精度良く検査する。【構成】 ラインメモリLM1〜LM6とシフトレジスタ群MRとにより検査対象信号ODを7×7画素に2次元展開し、その7×7画素のうち中心付近の3×3画素を除いた周辺画素O1〜040の値を推定ネットワーク100に入力する。推定ネットワーク100はニューラルネットワークによって構成されており、予め、基準画像データを用いて学習している。すなわち、学習演算回路102により、基準画像データにおける中心画素O0の値とそれに対応する出力値Doutとの差が小さくなるようにパラメータが設定されている。学習後に検査対象信号ODを入力して得られる出力値Doutは判定回路104で2値化し、良品推定データPDとして出力する。この良品推定データPDと検査画像データODとの比較に基づき、被検査物における欠陥を検出する。
Claim (excerpt)：
被検査物に形成されたパターンを画素毎に読み取って得られる検査画像パターンに基づき、前記被検査物における欠陥を検出する画像パターン検査装置において、a)前記検査画像パターンにおける各画素に注目し、注目画素の周辺の画素であって該注目画素及び該注目画素の近傍の画素を除いた画素に基づき、所定の推定機構によって該注目画素に対応する参照画素の値を推定する推定手段と、b)前記検査画像パターンにおける各画素の値を該画素に対して推定手段によって推定された参照画素の値と比較することにより、前記被検査物における欠陥を検出する検出手段と、を備えることを特徴とする画像パターン検査装置。
IPC (3)：
G01N 21/88 ,  G06T 7/00 ,  G06T 5/00
FI (2)：
G06F 15/62 405 A ,  G06F 15/68 310 J
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
  • 特開平4-198741
  • はんだ付け状態検査装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-089143   Applicant：日立電子株式会社
  • 外観検査装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-289963   Applicant：富士通株式会社
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