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J-GLOBAL ID：200903014364053688

シリコーンエラストマーの製造方法

Inventor：
ウィリアム ジェームズ スチュルズ,ジュニア

About ウィリアム ジェームズ スチュルズ,ジュニア

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シジョン シャン

About シジョン シャン


Applicant, Patent owner：
ダウ・コ-ニング・コ-ポレ-ション

About ダウ・コ-ニング・コ-ポレ-ション


Agent (1)： 石田 敬 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997346407
Publication number (International publication number)：1998176059
Application date： Dec. 16, 1997
Publication date： Jun. 30, 1998
Summary：
【要約】【課題】 シリコーンエマルジョンに形成することができるシリコーンエラストマーの形態にある低分子量シロキサン流体または溶剤を提供すること。【解決手段】 低分子量シロキサン流体の存在下で≡SiH含有シロキサンとα,ω-ジエンのような不飽和炭化水素シリコーンの架橋反応によりシリコーンエラストマーを製造する方法。
Claim (excerpt)：
(A)式:R3 SiO(R'2SiO)a (R''HSiO)bSiR3 または式:(R'2SiO)a (R''HSiO)b により表される≡Si-H含有ポリシロキサン、および任意に式:HR2 SiO(R'2SiO)c SiR2 Hにより表される≡Si-H含有ポリシロキサンまたは式:HR2 SiO(R'2SiO)a (R''HSiO)b SiR2 Hにより表される≡Si-H含有ポリシロキサン(前記式中、R、R' およびR''は炭素原子数1〜6のアルキル基であり、aは0〜250の値、bは1〜250の値、cは0〜250の値である。);および(B)式:CH2 =CH(CH2 )x O(CH2 CH2 O)y (CH2 CH3CHO)z Tまたは式:CH2 =CH-Q-O(CH2 CH2 O)y (CH2 CH3 CHO)z T(前記式中、Tは水素、C1 〜C10アルキル基、アリール基またはC1 〜C20アシル基であり、Qは不飽和を含有する二価連結基であり、xは1〜6の値であり、yは0または1〜100の値であり、zは0または1〜100の値であるが、yおよびzの両方が0でないことを条件とする。)により表されるモノアルケニルポリエーテル;を白金触媒の存在下、ポリエーテル基を有する≡Si-H含有ポリシロキサンが形成されるまで反応させる工程;ならびに(C)前記ポリエーテル基を有する≡Si-H含有ポリシロキサン;および(D)式:CH2 =CH(CH2 )x CH=CH2 により表されるα,ω-ジエン、式:CH≡C(CH2 )x C≡CHにより表されるα,ω-ジイン、および式:CH2 =CH(CH2 )x C≡CHにより表されるα,ω-エン-イン(前記式中、xは1〜20の値である。);を(E)不飽和炭化水素中の二重結合または三重結合を交差して≡SiHが架橋および付加することによってシリコーンエラストマーが形成されるまで(i) 有機化合物、(ii)ケイ素原子を含有する化合物、(iii) 有機化合物の混合物、(iv)ケイ素原子を含有する化合物の混合物および(v) 有機化合物とケイ素原子を含有する化合物の混合物から選ばれる溶剤ならびに白金触媒の存在下、反応させる工程;を含んでなるシリコーンエラストマーの製造方法。
IPC (3)：
C08G 77/12 ,  A61K 7/00 ,  C08G 77/46
FI (3)：
C08G 77/12 ,  A61K 7/00 ,  C08G 77/46
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (12)
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Cited by examiner (13)
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