Pat
J-GLOBAL ID:200903014613544611
セレンイオン及びヒ素イオンの除去剤とその使用
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (1):
小林 正明
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999036462
Publication number (International publication number):2000233188
Application date: Feb. 15, 1999
Publication date: Aug. 29, 2000
Summary:
【要約】【課題】 廉価かつ簡易な方法で、セレン及び/又はヒ素含有液中より、4価のセレンと5価のヒ素のみならず、従来の方法では、除去困難であった6価のセレンと3価のヒ素も同時に除去できる除去剤、及び該除去剤を使用した除去方法を提供する。【解決手段】 アニオン(イオン交換性)が1価及び/又は2価のハイドロタルサイト類、(リチウム-アルミネート系も含む)及び、それらの焼成物の中から選ばれた、少くとも1種からなるセレン及びヒ素イオンの除去剤、及び除去方法。
Claim (excerpt):
下記式(1)〜(3) M<SP>2</SP><SP>+</SP><SB>1-x</SB>M<SP>3+</SP><SB>x</SB>(OH)<SB>2</SB>A<SP>n-</SP><SB>x/n</SB>・mH<SB>2</SB>O (1)(式中、M<SP>2</SP><SP>+</SP>及びM<SP>3+</SP>は、それぞれ2価金属イオン、3価金属イオンを示し、A<SP></SP><SP>n-</SP>は、1価及び/又は2価のアニオンを示し、x及びmは、それぞれ次の範囲の数を示す、0<x≦0.5,0≦m≦3)、 M<SP>2</SP><SP>+</SP><SB>1-x</SB>M<SP>3+</SP><SB>x-</SB><SB>δ</SB>0 (2)(式中、M<SP>2</SP><SP>+</SP>、M<SP>3+</SP>及びxは、式(1)と同じ意味を表し、δは、カチオン粒子欠陥量を示す)、〔(Li)<SB>y</SB>M<SP>2+</SP><SB>z</SB>〕Al<SB>2</SB>(OH)<SB>6</SB>A<SP>n-</SP><SB>(y+2z)/n</SB>・m<SP>'</SP>H<SB>2</SB>O (3)(但し,式中、M<SP>2+</SP>及びA<SP>n-</SP>は式(1)と同じ意味を表し、y,z及びm’は、それぞれ次の範囲の数を示す、0<y≦1、0≦z<0.5、0≦m’≦3を示す)、で表わされる固溶体の少くとも一種を有効成分として含有することを特徴とするセレンイオン及び/又はヒ素イオンの除去剤。
IPC (5):
C02F 1/58
, B01D 15/00
, B01J 20/12
, C02F 1/62
, C02F 1/28
FI (5):
C02F 1/58 H
, B01D 15/00 N
, B01J 20/12 B
, C02F 1/62 Z
, C02F 1/28 Z
F-Term (51):
4D017AA01
, 4D017BA13
, 4D017CA05
, 4D017CA17
, 4D017CB01
, 4D017DA01
, 4D017EA01
, 4D024AA02
, 4D024AA04
, 4D024AB17
, 4D024BA05
, 4D024BA12
, 4D024BA13
, 4D024BA14
, 4D024BB01
, 4D024BC01
, 4D024CA01
, 4D024DB03
, 4D024DB19
, 4D024DB20
, 4D038AA02
, 4D038AA04
, 4D038AA08
, 4D038AB70
, 4D038BA02
, 4D038BB06
, 4D038BB08
, 4D038BB13
, 4D038BB17
, 4G066AA13A
, 4G066AA13B
, 4G066AA16A
, 4G066AA16B
, 4G066AA17A
, 4G066AA17B
, 4G066AA20A
, 4G066AA20B
, 4G066AA27A
, 4G066AA27B
, 4G066AA43A
, 4G066AA43B
, 4G066AA47A
, 4G066AA47B
, 4G066AA53A
, 4G066AA53B
, 4G066AA63A
, 4G066AA63B
, 4G066BA09
, 4G066CA46
, 4G066DA08
, 4G066EA20
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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特開昭58-214338
-
特公昭47-032198
-
水中のヒ素除去装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-326811
Applicant:オルガノ株式会社
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