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J-GLOBAL ID:200903014691984148

希ガスの核スピンを過偏極させるための高圧ポーラライザー

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小林 浩 (外5名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2001515982
Publication number (International publication number):2003506173
Application date: Jul. 27, 2000
Publication date: Feb. 18, 2003
Summary:
【要約】【課題】 広帯域および狭帯域レーザーが最適な方式で等しく使用できる、希ガスのためのポーラライザーを提供すること。【解決手段】 本発明は、ガラスを含む試料セルと該試料セルが配置される圧力室を備えた希ガスのためのポーラライザーに関するものである。高圧および付随する広帯域または狭帯域レーザーが、最適な方法で同様に提供され得る。ゆえに、このポーラライザーは30バールおよびそれ以上の圧力で操作される。
Claim (excerpt):
ガラスを含む器具が内部に配置されている圧力室(2)によって特徴づけられる、ガラスを含む器具(1、11、12、13、15)を備えた希ガスのためのポーラライザー。
IPC (3):
A61B 5/055 ,  G01R 33/28 ,  H01S 3/00
FI (3):
H01S 3/00 A ,  A61B 5/05 383 ,  G01N 24/02 B
F-Term (11):
4C096AA20 ,  4C096AB07 ,  4C096AB41 ,  4C096AB50 ,  4C096AC04 ,  4C096FC14 ,  5F072AB13 ,  5F072KK30 ,  5F072YY01 ,  5F072YY11 ,  5F072YY20
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (6)
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Cited by examiner (1)
  • ガスセル型原子発振器
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平7-276729   Applicant:アンリツ株式会社
Article cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
  • ”Rubidium Absolute Polarisation Imaging at High Temperatures”
Cited by examiner (1)
  • ”Rubidium Absolute Polarisation Imaging at High Temperatures”

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