Pat
J-GLOBAL ID:200903014786467604

反射防止膜の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 石井 紀男
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993052904
Publication number (International publication number):1994242302
Application date: Feb. 18, 1993
Publication date: Sep. 02, 1994
Summary:
【要約】【目的】 反射防止膜の製造方法において、耐久性及び耐熱性等の信頼性に優れた反射防止膜を得ること。【構成】 光学媒体1の表面に、Ti O2 膜を一層以上含む反射防止膜を形成した光学部品において、Ti O2 膜2又は3の屈折率が波長850nmより長い光に対して2.4以上とした。
Claim (excerpt):
光学媒体の表面に、Ti O2 膜を一層以上含む反射防止膜を形成した光学部品において、Ti O2 膜の屈折率が波長850nmより長い光に対して2.4以上であることを特徴とする反射防止膜の製造方法。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
  • 導電性反射防止膜
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-215422   Applicant:富士写真光機株式会社
  • 導電性反射防止膜
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-215423   Applicant:富士写真光機株式会社
  • 特開平2-171701
Show all

Return to Previous Page