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J-GLOBAL ID：200903014905433861

静電吸着電極およびそれを用いたプラズマ処理装置

Inventor： 伊藤 陽一
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996007111
Publication number (International publication number)：1997199578
Application date： Jan. 19, 1996
Publication date： Jul. 31, 1997
Summary：

【要約】【課題】プラズマ等により処理されるウエハを静電吸着力により支持する静電吸着電極において、広い温度範囲にわって適用可能な静電吸着電極を提供する。【解決手段】静電吸着電極15を、Al製の電極13とAl製の電極13にSiO2を添加して安定化させZrO2にTiO2を添加して形成した絶縁膜14とで構成する。これにより、広い温度範囲にわって良好にウエハを吸着保持できる。

Claim (excerpt)：

処理によって温度の異なる試料を絶縁膜との間に発生させた静電吸着力により支持する静電吸着電極において、前記絶縁膜をZrO2に遷移金属を添加して形成したことを特徴とする静電吸着電極。

IPC (3)：

H01L 21/68 ,  B23Q 3/15 ,  H01L 21/3065

FI (3)：

H01L 21/68 R ,  B23Q 3/15 D ,  H01L 21/302 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 静電チャック
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-088390   Applicant：信越化学工業株式会社
• 静電チャック
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-080416   Applicant：東陶機器株式会社