重合体、レジスト樹脂組成物、及びそれらを用いたパターン形成方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：矢口平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997219539
Publication number (International publication number)：1999060733
Application date： Aug. 14, 1997
Publication date： Mar. 05, 1999
Summary：

【要約】【課題】波長が220nm以下のエキシマレーザー(193nmArFレーザ等)の遠紫外線等に対し吸収がなく(透明であり)、高い感度と解像度を有する、微細パターン形成に適したレジスト樹脂組成物を提供すること。【解決手段】酸により解離する基(t-ブチル基、t-ブトキシカルボニル基、トリメチルシリル基、又はテトラヒドロピラニル基等)を側鎖に有するポリオルガノシルセスキオキサンと放射線照射により分解して酸を発生する酸発生剤を含んで成ることを特徴とするレジスト樹脂組成物。

Claim (excerpt)：

一般式(1)からなるポリオルガノシルセスキオキサンを含有することを特徴とする重合体。一般式(1);【化1】(式中R1 ,R2 は、それぞれ独立して炭素数1〜4のアルキル基から選ばれた少なくとも1種の置換基、または酸で分解し得るエステルを示し、R3 〜R6は炭素数1〜4のアルキル基、または水素原子を示す。またnは正の数である)

IPC (6)：

C08G 77/04 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/039 601 , G03F 7/075 511 , H01L 21/027

FI (6)：

C08G 77/04 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 A , G03F 7/039 601 , G03F 7/075 511 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

特開平4-106549
ポリシロキサン化合物及びポジ型レジスト材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-270580 Applicant：信越化学工業株式会社
酸感応ポリマおよびホトレジスト構造の作成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-210073 Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション

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