CVD成膜装置及びCVD成膜方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：柳瀬睦肇 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001194386
Publication number (International publication number)：2003013229
Application date： Jun. 27, 2001
Publication date： Jan. 15, 2003
Summary：

【要約】【課題】微粒子の表面全体に薄膜を均一に成膜できるCVD成膜装置及びCVD成膜方法を提供する。【解決手段】本発明に係るCVD成膜装置は、微粒子の表面全体に薄膜を成膜するCVD成膜装置であって、微粒子を収容する真空チャンバー11と、この真空チャンバーを回転させるモータ16と、真空チャンバー内に原料ガスを導入する原料ガス発生源22と、真空チャンバーにRF出力を供給する高周波電源25と、を具備し、上記モータを用いて真空チャンバーを回転させることにより、真空チャンバー内の微粒子を動かしながら該微粒子の表面全体に薄膜を成膜するものである。

Claim (excerpt)：

微粒子の表面全体に薄膜を成膜するCVD成膜装置であって、微粒子を収容する真空チャンバーと、この真空チャンバーを回転させる駆動機構と、真空チャンバー内に原料ガスを導入する原料ガス導入機構と、真空チャンバーに電力を供給する電力供給機構と、を具備し、上記駆動機構を用いて真空チャンバーを回転させることにより、真空チャンバー内の微粒子を動かしながら該微粒子の表面全体に薄膜を成膜することを特徴とするCVD成膜装置。

IPC (2)：

C23C 16/44 , B01J 19/08

FI (2)：

C23C 16/44 B , B01J 19/08 H

F-Term (19)：

4G075AA24 , 4G075AA30 , 4G075BA05 , 4G075BC04 , 4G075BD14 , 4G075CA47 , 4G075CA62 , 4G075DA02 , 4G075EC21 , 4G075ED01 , 4K030AA09 , 4K030BA28 , 4K030CA18 , 4K030EA06 , 4K030FA03 , 4K030GA04 , 4K030KA05 , 4K030KA17 , 4K030KA30

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

プラズマCVDによる炭化物コーティング方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-274681 Applicant：新技術事業団
プラスチック容器の成膜装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-057197 Applicant：凸版印刷株式会社
特開平2-153068

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