Pat
J-GLOBAL ID:200903015241285220

非晶質材料の加工方法及びガラス基板

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 渡部 敏彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001267198
Publication number (International publication number):2002160943
Application date: Sep. 04, 2001
Publication date: Jun. 04, 2002
Summary:
【要約】【課題】 均一な突起高さを有する表面凸部を非晶質材料の所望位置に形成することができるようにした。【解決手段】 無機ガラス1の表面にダイヤモンド製の圧子2を所定の加圧力で押し当てて高密度化された圧縮層4を形成し、次いで前記無機ガラス1をフッ酸を含有する酸性エッチング液に浸漬して第1のエッチング処理を行い、さらにpH11以上の水酸化カリウム水溶液等のアルカリ性エッチング液に前記無機ガラス1を浸漬して変質層7を除去する第2のエッチング処理を行い、無機ガラス1の表面に微小凸部5を形成する。
Claim (excerpt):
非晶質材料の表面に対し部分的に所定の加圧力を負荷して高密度化された圧縮層を形成し、次いで該圧縮層と該圧縮層以外の非圧縮層とで除去能力の異なる処理剤を使用して前記非晶質材料の表層面を除去し、前記圧縮層を凸形状に加工することを特徴とする非晶質材料の加工方法。
IPC (2):
C03C 15/00 ,  C03C 3/085
FI (2):
C03C 15/00 B ,  C03C 3/085
F-Term (89):
4G059AA08 ,  4G059AC01 ,  4G059BB04 ,  4G059BB12 ,  4G059BB14 ,  4G062AA01 ,  4G062BB01 ,  4G062CC10 ,  4G062DA06 ,  4G062DA07 ,  4G062DB03 ,  4G062DB04 ,  4G062DC01 ,  4G062DC02 ,  4G062DD01 ,  4G062DE01 ,  4G062DE02 ,  4G062DE03 ,  4G062DF01 ,  4G062EA03 ,  4G062EA04 ,  4G062EB01 ,  4G062EB02 ,  4G062EB03 ,  4G062EB04 ,  4G062EC01 ,  4G062ED01 ,  4G062ED02 ,  4G062ED03 ,  4G062ED04 ,  4G062EE01 ,  4G062EE02 ,  4G062EE03 ,  4G062EE04 ,  4G062EF01 ,  4G062EF02 ,  4G062EF03 ,  4G062EF04 ,  4G062EG01 ,  4G062EG02 ,  4G062EG03 ,  4G062EG04 ,  4G062FA01 ,  4G062FA10 ,  4G062FB01 ,  4G062FB02 ,  4G062FB03 ,  4G062FC01 ,  4G062FD01 ,  4G062FE01 ,  4G062FF01 ,  4G062FG01 ,  4G062FH01 ,  4G062FJ01 ,  4G062FK01 ,  4G062FK02 ,  4G062FK03 ,  4G062FL01 ,  4G062GA01 ,  4G062GA10 ,  4G062GB01 ,  4G062GC01 ,  4G062GD01 ,  4G062GE01 ,  4G062HH01 ,  4G062HH03 ,  4G062HH05 ,  4G062HH07 ,  4G062HH08 ,  4G062HH09 ,  4G062HH10 ,  4G062HH11 ,  4G062HH12 ,  4G062HH13 ,  4G062HH15 ,  4G062HH17 ,  4G062HH20 ,  4G062JJ01 ,  4G062JJ03 ,  4G062JJ05 ,  4G062JJ07 ,  4G062JJ10 ,  4G062KK01 ,  4G062KK03 ,  4G062KK05 ,  4G062KK07 ,  4G062KK10 ,  4G062MM27 ,  4G062NN40
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
Show all

Return to Previous Page