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J-GLOBAL ID：200903015296901019

プラズマ処理装置

Inventor： 寒川 誠二 ,  篠原 己拔 ,  松本 博文 ,  塚田 勉 ,  中川 行人
Applicant, Patent owner： 日本電気株式会社 ,  日本高周波株式会社 ,  日電アネルバ株式会社
Agent (1)： 舘野 千惠子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994122978
Publication number (International publication number)：1995307200
Application date： May. 12, 1994
Publication date： Nov. 21, 1995
Summary：

【要約】【目的】 VHF帯高周波電界を均一に効率よく導入して、小型で簡易なプラズマ処理装置を提供する。【構成】 プラズマ生成室内に、導入波長の1/4長を有する複数のアンテナを放射状に取り付け、これにVHF帯の高周波信号を加えて励振する。

Claim (excerpt)：

プラズマ生成室内で高周波によって発生する電場を利用して処理ガスをプラズマ化し、該プラズマを基板に照射して基板の表面処理を行うプラズマ処理装置において、プラズマ生成室内に導入波長の1/4長を有する複数のアンテナを放射状に配置し、該アンテナに高周波信号を印加して励振させることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (3)：

H05H 1/46 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/3065

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平1-258400
  
• プラズマを用いるダイヤモンドの合成法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-212776   Applicant：科学技術庁無機材質研究所長
• 特開平4-290428