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J-GLOBAL ID：200903015355850750

平面研削装置

Inventor：
石川 俊彦

About 石川 俊彦


Applicant, Patent owner：
株式会社東京精密

About 株式会社東京精密


Agent (1)： 松浦 憲三
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998007928
Publication number (International publication number)：1999198007
Application date： Jan. 19, 1998
Publication date： Jul. 27, 1999
Summary：
【要約】【課題】アライメントステージ、粗研削ステージ、仕上げ研削ステージ、及び洗浄ステージを持つ平面研削装置であって、装置本体を小型化するための最適なステージ配置位置をもつ平面研削装置を提供する。【解決手段】本発明によれば、アライメントステージ16と洗浄ステージ22の中心16A、22Aが、粗研削ステージ18と仕上げ研削ステージ20の中心18A、20Aよりも装置本体12の中心12Aに位置するようにアライメントステージ16、粗研削ステージ18、仕上げ研削ステージ20、及び洗浄ステージ22を配置したので、装置本体12上のステージ設置面積を小さくすることができ、よって、装置本体12を小型化することができる。
Claim (excerpt)：
研削装置本体上にアライメントステージ、粗研削ステージ、仕上げ研削ステージ、及び洗浄ステージが配置され、アライメントステージでアライメントしたワークを粗研削ステージで粗研削すると共に仕上げ研削ステージで仕上げ研削した後、洗浄ステージで洗浄する平面研削装置において、前記アライメントステージ及び前記洗浄ステージの各中心が、前記粗研削ステージ及び仕上げ研削ステージの各中心よりも、前記研削装置本体の中心側に位置するようにアライメントステージ、粗研削ステージ、仕上げ研削ステージ、及び洗浄ステージを配置したことを特徴とする平面研削装置。
IPC (2)：
B24B 7/00 ,  H01L 21/304 631
FI (2)：
B24B 7/00 A ,  H01L 21/304 631
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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