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J-GLOBAL ID：200903015396750018

マイクロレンズ・マイクロレンズアレイ及びその製造方法

Inventor： 梅木 和博 ,  秋山 省一
Applicant, Patent owner： リコー光学株式会社 ,  リコー応用電子研究所株式会社
Agent (1)： 樺山 亨 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992344157
Publication number (International publication number)：1994194502
Application date： Dec. 24, 1992
Publication date： Jul. 15, 1994
Summary：

【要約】【目的】光利用効率の良いマイクロレンズおよびマイクロレンズアレイとその製造方法を提供する。【構成】透明な基板10条に熱変形性の感光性材料による均一な厚さの膜12を形成し、形成されるマイクロレンズアレイにおける各レンズとその配列に応じたパタ-ンに従って上記膜を光パタ-ニングし、光パタ-ニングされた膜12を熱変形温度以上に加熱し、感光性材料の熱変形性及び表面張力により、滑らかな凸面形状12Aをもった感光性材料のアレイ配列を形成し、アレイ配列を形成された面に対してドライエッチングを行い、凸面形状12Aのアレイ配列を基板10に彫り写すことにより、所望の屈折面形状及びそのアレイ配列を基板10に形成する。

Claim (excerpt)：

透明な基板上に熱変形性の感光性材料による均一な厚さの膜を形成し、形成されるマイクロレンズアレイにおける各レンズとその配列に応じたパタ-ンに従って上記膜を光パタ-ニングし、光パタ-ニングされた上記膜を熱変形温度に加熱し、感光性材料の熱変形性と表面張力より、滑らかな凸面形状を持った感光性材料のアレイ配列を形成し、上記アレイ配列を形成された面に対してドライエッチングを行い、上記凸面形状のアレイ配列を上記基板に彫り写すことにより、所望の屈折率面形状及びそのアレイ配列状態を上記基板に形成することを特徴とするマイクロレンズアレイの製造方法。

IPC (2)：

G02B 3/00 ,  B29D 11/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平3-218067
  
• マイクロレンズおよびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-197959   Applicant：大日本印刷株式会社
• オンチップレンズおよびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-280694   Applicant：ソニー株式会社