ポジ型フオトレジスト組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：萩野平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995059371
Publication number (International publication number)：1996254824
Application date： Mar. 17, 1995
Publication date： Oct. 01, 1996
Summary：

【要約】【目的】膜厚に依らず高感度、高解像力、かつ現像ラチチュードが広く、更にレジスト性能の膜厚依存性小さいポジ型フオトレジスト組成物を提供することである。特に、本発明では、感度、解像力が著しく向上したポジ型フオトレジスト組成物を提供することが目的である。【構成】アルカリ可溶性樹脂と、特定のポリヒドロキシ化合物の1,2-ナフトキノンジアジドスルホン酸モノエステルの少なくとも1種及び特定のポリヒドロキシ化合物の1,2-ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルの少なくとも1種とを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性樹脂、並びに下記一般式〔I〕〜〔IV〕で表されるポリヒドロキシ化合物の1,2-ナフトキノンジアジドスルホン酸モノエステルの少なくとも1種、及び下記一般式〔V〕〜〔VII〕で表されるポリヒドロキシ化合物の1,2-ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルの少なくとも1種を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】ここで、R1 、R2 ;それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基(但し、どちらか一方は水素原子である)R3 、R4 ;それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シクロアルキル基R5 ;水素原子、アルキル基、アリール基、シクロアルキル基(但し、R9 、R10がともに水素原子の場合、R5 は水素原子ではない)R6 〜R8 ;それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、シクロアルキル基R9 、R10;それぞれ独立に、水素原子、アルキル基(但し、R9 、R10は環を形成していてもよい)R11、R12、R21、R22;それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基(但し、どちらか一方は水素原子である)R13、R14、R23、R24;それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シクロアルキル基R15、R16、R25、R26;それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、シクロアルキル基R19、R20、R29、R30;それぞれ独立に上記R9 、R10と同様の内容を表す。R17、R18、R27、R28;それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、シクロアルキル基(但し、同時に水素原子であることはない)R31〜R52;それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、もしくはシクロアルキル基を表し、但し、少なくとも1つはシクロアルキル基、R61〜R71;それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アシル基もしくはシクロアルキル基を表し、但し、少なくとも1つはシクロアルキル基、A;-CH(R12)-(R12は、水素原子、アルキル基を表す。)、m;2又は3を表す。

IPC (2)：

G03F 7/022 , H01L 21/027

FI (2)：

G03F 7/022 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

特開平4-086665
ポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-346400 Applicant：住友化学工業株式会社
ポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-124536 Applicant：住友化学工業株式会社

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