Pat
J-GLOBAL ID:200903015865205921
被処理水からのヒ素の除去方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
梶 良之
, 須原 誠
, 竹中 芳通
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006285264
Publication number (International publication number):2008100177
Application date: Oct. 19, 2006
Publication date: May. 01, 2008
Summary:
【課題】アトマイズ法などによって製造される高密度で安価な鉄粉を用いて、被処理水中に含まれるヒ素を効率良く安価に除去できる方法を提供する。【解決手段】曝気槽1にてヒ素を含有する被処理水Aに空気を吹き込んで、被処理水A中の溶存酸素濃度を2.0〜8.0mg/Lに高めた後、この空気吹き込み処理後の被処理水A1を、鉄粉を充填したカラムを備えたヒ素吸着塔2に通水する。これにより、ヒ素吸着時において、鉄粉表面の酸化が促進されるとともに、被処理水A中に3価の亜ヒ酸イオンの形態で存在していたヒ素が前もって5価のヒ酸イオンの形態に酸化されているので、鉄粉表面に生成した鉄の酸化物や水酸化物へのヒ素の吸着が促進され、ヒ素が効率的に除去できる。【選択図】図1
Claim (excerpt):
ヒ素を含有する被処理水からヒ素を除去する方法であって、前記被処理水に酸素含有ガスを吹き込むことにより前記被処理水中の溶存酸素濃度を高めた後、この被処理水を鉄粉に接触させてヒ素を吸着除去することを特徴とする、被処理水からのヒ素の除去方法。
IPC (2):
FI (3):
C02F1/28 B
, C02F1/72 Z
, C02F1/28 E
F-Term (33):
4D024AA04
, 4D024AA05
, 4D024AB17
, 4D024BA14
, 4D024BB01
, 4D024BC01
, 4D024BC04
, 4D024BC05
, 4D024CA01
, 4D024CA06
, 4D024DA07
, 4D024DB01
, 4D024DB23
, 4D050AA02
, 4D050AA12
, 4D050AB59
, 4D050BB01
, 4D050BD03
, 4D050BD08
, 4D050CA06
, 4D624AA04
, 4D624AA05
, 4D624AB17
, 4D624BA14
, 4D624BB01
, 4D624BC01
, 4D624BC04
, 4D624BC05
, 4D624CA01
, 4D624CA06
, 4D624DA07
, 4D624DB01
, 4D624DB23
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
Cited by examiner (8)
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浄水装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-204112
Applicant:株式会社創造科学研究所
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汚染水中のヒ素除去剤およびその製法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-098827
Applicant:株式会社神戸製鋼所
-
特開昭62-121691
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Article cited by the Patent:
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