光導波路形成用放射線硬化性組成物および光導波路

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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001383161
Publication number (International publication number)：2003185860
Application date： Dec. 17, 2001
Publication date： Jul. 03, 2003
Summary：

【要約】【課題】波長365nmの紫外線に対して優れた感度を有し、高精度のパターンを形成できると同時に光学特性が良好で高湿、恒温下での長期の使用条件においても安定した光学特性を維持できる光導波路に関する。【解決手段】 (A)下記一般式(1)で表される加水分解性シラン化合物、その加水分解物およびその縮合物からなる群から選ばれる少なくとも一つの化合物RmSi(X)4-m (1)(Rは炭素数1〜12の非加水分解性の有機基、Xは加水分解性基、mは0〜3である)ならびに(B)波長365nmに吸収を有する有機オニウム塩を含有する光導波路形成用放射線硬化性組成物。

Claim (excerpt)：

(A)下記一般式(1)で表される加水分解性シラン化合物、その加水分解物およびその縮合物からなる群から選ばれる少なくとも一つの化合物RmSi(X)4-m (1)(Rは炭素数1〜12の非加水分解性の有機基、Xは加水分解性基、mは0〜3である)ならびに(B)波長365nmに吸収を有する有機オニウム塩を含有する光導波路形成用放射線硬化性組成物。

IPC (2)：

G02B 6/12 , G03F 7/004 501

FI (2)：

G03F 7/004 501 , G02B 6/12 N

F-Term (14)：

2H025AB14 , 2H025AC01 , 2H025AD01 , 2H025BE07 , 2H025CB14 , 2H025CB33 , 2H025CC17 , 2H047KA04 , 2H047PA02 , 2H047PA15 , 2H047PA24 , 2H047PA28 , 2H047QA05 , 2H047TA41

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

光導波路形成用組成物、光導波路の形成方法、および光導波路
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-255286 Applicant：ジェイエスアール株式会社
光導波路の製造方法および光導波路
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-238406 Applicant：ジェイエスアール株式会社
放射線硬化性組成物およびそれを用いた光導波路ならびに光導波路の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-103716 Applicant：ジェイエスアール株式会社

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