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J-GLOBAL ID：200903005580631646

放射線硬化性組成物およびそれを用いた光導波路ならびに光導波路の製造方法

Inventor：
宇高 友広

About 宇高 友広

, 
西川 昭

About 西川 昭


Applicant, Patent owner：
ジェイエスアール株式会社

About ジェイエスアール株式会社


Agent (1)： 渡辺 喜平 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000103716
Publication number (International publication number)：2001288364
Application date： Apr. 05, 2000
Publication date： Oct. 16, 2001
Summary：
【要約】【課題】 優れたパターン精度を有する放射線硬化性組成物、およびこのような放射線硬化性組成物を用いた光導波路ならびに光導波路の製造方法を提供する。【解決手段】 下部クラッド層と、コア部分と、上部クラッド層とを含む光導波路において、下部クラッド層、コア部分および上部クラッド層の少なくとも一つが、下記(A)〜(C)成分を含有してなる放射線硬化性組成物の硬化物である。(A)一般式(1)で表される加水分解性シラン化合物、その加水分解物およびその縮合物からなる群から選ばれる少なくとも1つの化合物(R1)pSi(X)4-p (1)[一般式(1)中、R1は、炭素数が1〜12である非加水分解性の有機基、Xは加水分解性基、およびpは0〜3の整数である。](B)光酸発生剤(C)酸拡散制御剤
Claim (excerpt)：
下記(A)〜(C)成分を含有することを特徴とする放射線硬化性組成物。(A)一般式(1)で表される加水分解性シラン化合物、その加水分解物およびその縮合物からなる群から選ばれる少なくとも1つの化合物(R1)pSi(X)4-p (1)[一般式(1)中、R1は、炭素数が1〜12である非加水分解性の有機基、Xは加水分解性基、およびpは0〜3の整数である。](B)光酸発生剤(C)酸拡散制御剤
IPC (4)：
C08L 83/04 ,  C08K 5/17 ,  G02B 6/12 ,  G02B 6/13
FI (4)：
C08L 83/04 ,  C08K 5/17 ,  G02B 6/12 N ,  G02B 6/12 M
F-Term (35)：
2H047KA03 ,  2H047KA05 ,  2H047KB01 ,  2H047PA02 ,  2H047PA22 ,  2H047PA28 ,  2H047QA05 ,  2H047RA08 ,  2H047TA31 ,  4J002CP031 ,  4J002CP081 ,  4J002EE038 ,  4J002EF128 ,  4J002EH038 ,  4J002EL059 ,  4J002EL069 ,  4J002EL148 ,  4J002EN027 ,  4J002EN067 ,  4J002EN107 ,  4J002EN136 ,  4J002EP017 ,  4J002EV236 ,  4J002EV246 ,  4J002EV296 ,  4J002EV309 ,  4J002EW176 ,  4J002EY016 ,  4J002EY026 ,  4J002EZ006 ,  4J002FD206 ,  4J002FD207 ,  4J002FD208 ,  4J002FD209 ,  4J002GQ05
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (17)
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