Pat
J-GLOBAL ID:200903016531336029
ヒドラゾン化合物を用いた触媒、ヒドラゾン高分子化合物及びヒドラゾン高分子化合物を用いた触媒
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
,
Agent (3):
岸本 達人
, 星野 哲郎
, 山下 昭彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007225266
Publication number (International publication number):2009056386
Application date: Aug. 31, 2007
Publication date: Mar. 19, 2009
Summary:
【課題】簡便な操作及び工程で製造可能であり、触媒金属の微細分散を可能とする触媒及び該触媒の原料となる高分子化合物を提供する。【解決手段】下記一般式(1)で表されるヒドラゾン化合物に少なくとも1種の触媒金属種を配位させたヒドラゾン金属錯体を焼成することにより得られる触媒、少なくとも下記一般式(1)で表されるヒドラゾン化合物から誘導される構成単位を繰り返し単位として含むヒドラゾン高分子化合物、並びに、少なくとも下記一般式(1)で表されるヒドラゾン化合物から誘導される構成単位を含むヒドラゾン高分子化合物に、少なくとも1種の触媒金属種を配位させたヒドラゾン高分子金属錯体を、焼成することにより得られる触媒。(式中、Pyは2-ピリジル基、3-ピリジル基又は4-ピリジル基を示す。)【選択図】なし
Claim (excerpt):
下記一般式(1)で表されるヒドラゾン化合物に少なくとも1種の触媒金属種を配位させたヒドラゾン金属錯体を、焼成することにより得られる触媒。
IPC (3):
B01J 31/22
, B01J 37/08
, H01M 4/88
FI (3):
B01J31/22 M
, B01J37/08
, H01M4/88 K
F-Term (39):
4G169AA03
, 4G169BA08B
, 4G169BA22A
, 4G169BA22B
, 4G169BA27A
, 4G169BA27B
, 4G169BB02A
, 4G169BC66B
, 4G169BC67B
, 4G169BC68B
, 4G169BE01A
, 4G169BE01B
, 4G169BE05A
, 4G169BE05B
, 4G169BE13A
, 4G169BE13B
, 4G169BE37A
, 4G169BE37B
, 4G169BE38A
, 4G169BE38B
, 4G169CC32
, 4G169EA11
, 4G169EB01
, 4G169FB23
, 4G169FB30
, 5H018AA03
, 5H018AA04
, 5H018AA06
, 5H018AS01
, 5H018BB01
, 5H018BB16
, 5H018DD08
, 5H018EE02
, 5H018EE03
, 5H018EE04
, 5H018EE05
, 5H018EE11
, 5H018EE16
, 5H018EE17
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
Cited by examiner (2)
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