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J-GLOBAL ID:200903016562576036
スチレン系重合体の製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
久保山 隆 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996286423
Publication number (International publication number):1997188709
Application date: Oct. 29, 1996
Publication date: Jul. 22, 1997
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】分子量分布が狭いことにより、流動性を維持したまま機械的強度の高いスチレン系重合体の製造。【解決手段】スチレン系化合物、あるいはスチレン系化合物とこれと共重合可能な化合物をラジカル重合させてスチレン系重合体を製造する方法であって、重合される化合物に対するラジカル捕捉剤濃度(C;mol%)が3. 0×10-3〜5. 0×10-2mol%となるようにラジカル捕捉剤を添加し、重合温度が100°C以上140°C以下であり、ラジカル捕捉剤濃度C(mol%)と、重合温度T(°C)が100C+0. 088T≦13. 8となる範囲で、重合転化率が40〜85%となるまで、熱重合により重合を行う、重量平均分子量が20万〜50万であるスチレン系重合体の製造方法。
Claim (excerpt):
スチレン系化合物、またはスチレン系化合物およびこれと共重合可能な化合物をラジカル重合させてスチレン系重合体を製造する方法であって、(1)重合される化合物にたいしてラジカル捕捉剤濃度(C;mol%)が3. 0×10-3〜5. 0×10-2mol%となるようにラジカル捕捉剤を添加し、(2)重合温度(T;°C)が100°C以上140°C以下であり、(3)ラジカル捕捉剤濃度C(mol%)と、重合温度T(°C)が【数1】100C+0. 088T≦13. 8となる範囲で、(4)重合転化率が40〜85%となるまで、(5)熱重合により重合を行う、ことを特徴とするスチレン系重合体の製造方法。
IPC (4):
C08F 2/38 MCN
, C08F 2/00 MAG
, C08F 2/02 MAP
, C08F 12/06
FI (4):
C08F 2/38 MCN
, C08F 2/00 MAG
, C08F 2/02 MAP
, C08F 12/06
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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分子量分布の狭いスチレン系重合体の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-026236
Applicant:関西ペイント株式会社
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分岐構造を有するビニル芳香族系重合体の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-067403
Applicant:旭化成工業株式会社
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重合体の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-260229
Applicant:株式会社ブリヂストン
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