感光剤、その製造方法及び該感光剤を用いてなるポジ型レジスト組成物

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：久保山隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993046455
Publication number (International publication number)：1994258827
Application date： Mar. 08, 1993
Publication date： Sep. 16, 1994
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】比較的大きい非溶解粒子数が製造直後において少なく、且つ長期保存後においても上記粒子の増加が少ない、ポジ型レジスト組成物、該組成物に用いられる感光剤、並びに該感光剤の製造方法を提供する。【構成】式I〜IVで示される2種以上のキノンジアジドスルホン酸エステルを含む。〔式中、R1 〜R42は各々独立して水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、水酸基又は式(V)〜(VII)で示される基を表わし、R43は水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を表わす。但し、R1 〜R4 の中少なくとも1つ及びR5 〜R9 の中少なくとも1つ、R10〜R13の中少なくとも1つ及びR14〜R18の中少なくとも1つ、R19〜R22の中少なくとも1つ及びR23〜R27の中少なくとも1つ、R28〜R42の中少なくとも1つは式(V)〜(VII)で示される基の中のいずれか1つである。〕

Claim (excerpt)：

一般式(I)〜(IV)【化1】〔式中、R1 〜R42は各々独立して水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、水酸基又は式(V)〜(VII)【化2】で示される基を表わし、R43は水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を表わす。但し、R1 〜R4 の中少なくとも1つ及びR5 〜R9 の中少なくとも1つは式(V)〜(VII)で示される基の中のいずれか1つであり、R10〜R13の中少なくとも1つ及びR14〜R18の中少なくとも1つは式(V)〜(VII)で示される基の中のいずれか1つであり、R19〜R22の中少なくとも1つ及びR23〜R27の中少なくとも1つは式(V)〜(VII)で示される基の中のいずれか1つであり、R28〜R42の中少なくとも1つは式(V)〜(VII)で示される基の中のいずれか1つである。〕で示される2種以上のキノンジアジドスルホン酸エステルを含むことを特徴とする感光剤。

IPC (3)：

G03F 7/022 , C07C309/76 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (13)

特開平4-295472
特開平4-241353
特開平2-084650

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