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J-GLOBAL ID：200903016688314878

厚膜パターン形成方法及び膜剥離装置

Inventor： 松本 武司 ,  土屋 權壽
Applicant, Patent owner： 大日本印刷株式会社 ,  進和工業株式会社
Agent (1)： 吉田 勝広 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997127795
Publication number (International publication number)：1998301300
Application date： May. 02, 1997
Publication date： Nov. 13, 1998
Summary：

【要約】【課題】 高い生産性で、高精度、高アスペクト比の厚膜パターンを与える方法及び装置を提供すること。【解決手段】 基板上に樹脂と無機粉体を含む厚膜を形成する工程、該厚膜表面にレジストパターンを形成する工程、レジスト膜の存在しない領域に前記厚膜の樹脂を溶解若しくは膨潤させる剥離液を付与して厚膜をパターン状に剥離除去する工程、及び形成された厚膜パターンを焼成する工程を含むことを特徴とする厚膜パターンの形成方法、及び該方法に使用する膜剥離装置。

Claim (excerpt)：

基板上に樹脂と無機粉体を含む厚膜を形成する工程、該厚膜表面にレジストパターンを形成する工程、レジスト膜の存在しない領域に前記厚膜の樹脂を溶解若しくは膨潤させる剥離液を付与して厚膜をパターン状に剥離除去する工程、及び形成された厚膜パターンを焼成する工程を含むことを特徴とする厚膜パターンの形成方法。

IPC (7)：

G03F 7/34 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/032 ,  G03F 7/30 501 ,  G03F 7/42 ,  G09F 9/30 324 ,  H01J 9/02

FI (7)：

G03F 7/34 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/032 ,  G03F 7/30 501 ,  G03F 7/42 ,  G09F 9/30 324 ,  H01J 9/02 F

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

• プラズマディスプレイパネル用隔壁の製造方法及び隔壁形成用組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-199691   Applicant：日本合成ゴム株式会社
• 特開昭56-038476
  
• プラズマディスプレイパネルの製造方法および螢光体組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-029044   Applicant：日本合成ゴム株式会社
• 特公昭48-009006
  
• 無機物質含有高感度感光性レジストおよび高感度ドライフィルムレジスト
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-005409   Applicant：凸版印刷株式会社
• 厚膜パターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-111400   Applicant：大日本印刷株式会社
• 特開平1-198745
  
• 特開昭57-192949