ポリエチレン微多孔膜

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997294095
Publication number (International publication number)：1999130900
Application date： Oct. 27, 1997
Publication date： May. 18, 1999
Summary：

【要約】【課題】強度発現に必要な膜厚および気孔率を維持し、かつ高いイオン透過性を有したポリエチレン微多孔膜を提供する。【解決手段】屈曲率が0.1〜1.5、気孔率が10%〜80%、平均孔径が0.01μm〜0.3μmであることを特徴とするポリエチレン微多孔膜。

Claim (excerpt)：

屈曲率が1.0〜1.5、気孔率が10%〜80%、平均孔径が0.01μm〜0.3μmであることを特徴とするポリエチレン微多孔膜。

IPC (4)：

C08J 9/26 102 , B01D 71/26 , C08L 23/06 , H01M 2/16

FI (4)：

C08J 9/26 102 , B01D 71/26 , C08L 23/06 , H01M 2/16 P

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (11)

ポリオレフィン微多孔膜
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-041970 Applicant：東燃化学株式会社
均質なポリエチレン製微多孔膜及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-166612 Applicant：旭化成工業株式会社
特開平1-101340

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