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J-GLOBAL ID:200903017138935677

平坦な基板表面に硬化フォトレジストのパターン化レリーフを設ける方法および装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 杉村 暁秀 (外5名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994045855
Publication number (International publication number):1995005693
Application date: Mar. 16, 1994
Publication date: Jan. 10, 1995
Summary:
【要約】【目的】 1×1mの表面に10×10μmのレリーフパターンをシームレスに複製するに好適に用いられる方法を提供せんとするものである。【構成】 ガラス基板27の表面25にパターン化合成樹脂レリーフ37を複製する装置において、基板表面25に紫外光で硬化し得るアクリレートラッカー33を被着し、その後レリーフ13を有する透明モールド3を表面25上でロールする。紫外線源17および楕円形ミラー37によってラッカーを焦線23の箇所で硬化してレリーフ37を形成する。モールド3のレリーフ13をガラス基板27上に複製する。上述した方法によって大きな剥離力による障害なく小寸法(10×10μm)のレリーフを大きなフラット表面(1×1m)上にシームレスに設けることができる。
Claim (excerpt):
平坦な基板表面に硬化フォトレジストのパターン化レリーフを設けるに当たり、基板表面に紫外光で硬化し得る液状フォトレジストの層を設け、その後フォトレジストに設けるべきパターン化レリーフと相補の関係にあるレリーフを有し、紫外光源からの紫外光に曝されてほぼ硬化する紫外光透過モールドと接触せしめてパターン化レリーフを形成し、その後硬化レリーフのモールドを除去するようにした平坦な基板表面に硬化フォトレジストのパターン化レリーフを設ける方法において、前記モールドとして円筒軸を中心として回転する中空円筒モールドを用い、その円筒表面の外側に前記レリーフを設けるとともに前記円筒軸を前記基板表面に平行に延在させ、前記モールドの内部に第1焦線および第2焦線を有する楕円ミラーを設け、これら焦線を前記基板表面に平行に延在させ、第1焦線は前記紫外光源の長手軸線に一致させ、第2焦線を基板表面に対するモールドの接線に一致させて、前記基板表面を前記回転モールドに非スリップ状態で接触させながら、前記フォトレジストを第2焦線の箇所で硬化させて前記パターン化レリーフの一部分を形成するようにしたことを特徴とする平坦な基板表面に硬化フォトレジストのパターン化レリーフを設ける方法。
IPC (4):
G03F 7/20 501 ,  G02B 5/20 101 ,  G09F 3/02 ,  H01L 21/027
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (11)
  • 特開平3-054569
  • 照明装置及びそれを用いた投影露光装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平3-225224   Applicant:キヤノン株式会社
  • 特開昭59-200419
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