窒化炭素の製造方法及びその方法により得られる窒化炭素

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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：北村修
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996169516
Publication number (International publication number)：1998018040
Application date： Jun. 28, 1996
Publication date： Jan. 20, 1998
Summary：

【要約】【課題】結合エネルギーが大きく、励起・解離が困難な化合物、組成物等を出発原料として使用した場合であっても目的とする材料を形成することが可能な、改良された気相蒸着法を提供する。【解決手段】化学的気相蒸着(CVD)法又は物理的気相蒸着(PVD)法を使用して窒化炭素を製造するに、これらの気相蒸着を行うエネルギー源とは別に基板上の膜の成長面に100〜300nmの範囲の波長を含む光、好ましくは中心波長が100〜300nmのレーザー光を照射する。

Claim (excerpt)：

化学的気相蒸着(CVD)法又は物理的気相蒸着(PVD)法を使用して窒化炭素を製造するに、基板上に形成される前記窒化炭素の成長面に別途100〜300nmの範囲の波長を含む光を照射することを特徴とする窒化炭素の製造方法。

IPC (6)：

C23C 16/34 , C01B 21/082 , C23C 14/22 , C23C 16/48 , H01L 21/205 , H01L 21/318

FI (6)：

C23C 16/34 , C01B 21/082 Z , C23C 14/22 F , C23C 16/48 , H01L 21/205 , H01L 21/318 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

ガラス成形用型とその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-327703 Applicant：京セラ株式会社
特開昭62-243770
光照射併用プラズマCVD法による硬質窒化ホウ素の製造法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-191693 Applicant：科学技術庁無機材質研究所長

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