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J-GLOBAL ID:200903017273052734

電子ビーム表面改質方法及び装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005319235
Publication number (International publication number):2007125574
Application date: Nov. 02, 2005
Publication date: May. 24, 2007
Summary:
【課題】断面積が大きくてエネルギ密度の大きい電子ビームパルスを照射する表面改質は、柱状乃至は台状体の頂部表面に対する照射改質をすると頂部近くの外周側面も改質されるが、断面に角部がある柱状体では側面改質領域が長さ方向に均一に行なわれないと言う問題が有った。【解決手段】電離性の希ガスが低気圧状態で充填してある電子銃部内で自然電子を拘束する磁場をソレノイドに電流を流して形成させ、該形成が所定状態になったところで環状アノードによりアノードプラズマを生成させ、磁場形成中に於けるアノードプラズマが所定の生成状態になった所でカソードに高く短い負の電圧パルスを印加して電子ビームを生成させアノードプラズマを通路として照射していたのを、繰り返す電子ビームの生成、照射毎に磁場形成用のソレノイド電流を反転させることにより側面改質領域を均一化する。【選択図】 図11
Claim (excerpt):
電子ビーム発生部を収納する円筒状の電子銃部と、電子ビームの被照射体を設置するターゲットテーブルを収納する照射処理部とを気密に結合させた真空ハウジングであって、所望の希ガスが所定の低気圧状態に充填保持され、前記電子銃部の一方の照射処理部側に設けられる環状アノードと、該環状アノードの軸線上の電子銃部の他側端部に設けられる大面積の電界放射カソードと、該カソードと前記アノード設置領域を含む電子銃部内に、前記アノードの軸線の周りを該軸線方向の磁力線で取り囲む磁場を形成し得るように電子銃の外周に同軸状に巻回して設けたソレノイドと、前記電子銃部内に前記磁場を所定時間形成するように前記ソレノイドを所定の電流値で励磁する第1のパルス電源と、前記低気圧ガス空間中に設けられた前記ターゲットテーブルと環状アノードとの間に、前記第1のパルス電源によるソレノイドの励磁が所定の磁場形成状態になるのを待つか検出して印加され、前記低圧充填希ガスの電離によりアノードプラズマを生成させるために接続される第2のパルス電源と、前記第2のパルス電源による電圧印加開始後の前記アノードプラズマが生成した微小遅延時間後に前記ターゲットに対してカソードに立ち上がり時間が短い負の高電圧を電子ビームパルスの照射時間となる所定の時間幅の間印加する第3のパルス電源とを設け、前記テーブルに設置した被照射体に所要複数回前記電子ビームのパルスを照射して被照射体の表面改質する方法に於いて、繰り返される電子ビームパルスの生成を前記磁場の磁力線の方向を適宜に反転させて行なうことを特徴とする表面改質方法。
IPC (2):
B23K 15/00 ,  C21D 1/09
FI (2):
B23K15/00 502 ,  C21D1/09 B
F-Term (4):
4E066AA03 ,  4E066BA09 ,  4E066BA12 ,  4E066BE04
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)

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