マクロ検査用照明装置、マクロ検査装置及び該方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：坂口博 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999308766
Publication number (International publication number)：2001141657
Application date： Oct. 29, 1999
Publication date： May. 25, 2001
Summary：

【要約】【課題】本発明の目的は、ウェハーなどの半導体基板に形成したレジストパターンなどの微細被加工面にデフォーカス不良等が含まれるか否かを特に目視で明瞭に検出できるマクロ検査用照明装置を提供することにある。また、本発明の他の目的は、得られたマクロ検査用照明装置を用いた検査装置と検査方法を提供することにある。【解決手段】可干渉光14を照射する光源を備えたマクロ検査用照明装置12と、そのマクロ検査用照明装置12から可干渉光14が所定の角度で照射される所定のパターンの微細被加工面16が形成された基板18を支持する支持手段20と、微細被加工面16からの回折光22により、基板18上に形成されたパターンが所定のパターンから変形しているか否かを判定する判定手段24とを含むマクロ検査装置10において、そのマクロ検査用照明装置12を、補色の関係にある2色の可干渉光を含む光を照射する装置で構成した。

Claim (excerpt)：

照明装置の光源から可干渉光を基板上に形成された所定のパターンの微細被加工面に所定の角度で照射し、該微細被加工面からの回折光により、該微細被加工面が前記所定のパターンから変形しているか否かを判定するための可干渉光を照射するマクロ検査用照明装置において、前記照射される可干渉光が、色対比効果が顕著な関係にある2色の光を含むマクロ検査用照明装置。

IPC (6)：

G01N 21/84 , G01B 11/24 , G01B 11/30 , G01N 21/956 , H01L 21/66 , H01L 21/027

FI (7)：

G01N 21/84 D , G01N 21/84 E , G01B 11/30 A , G01N 21/956 A , H01L 21/66 J , G01B 11/24 D , H01L 21/30 502 V

F-Term (41)：

2F065AA49 , 2F065AA65 , 2F065BB02 , 2F065CC19 , 2F065FF48 , 2F065FF51 , 2F065GG02 , 2F065GG13 , 2F065GG21 , 2F065GG23 , 2F065HH12 , 2F065JJ03 , 2F065JJ08 , 2F065JJ12 , 2F065LL01 , 2F065LL02 , 2F065LL22 , 2F065LL26 , 2F065PP13 , 2G051AA51 , 2G051AA73 , 2G051AA90 , 2G051AB01 , 2G051AB02 , 2G051BA01 , 2G051BA20 , 2G051BB07 , 2G051BB17 , 2G051CA11 , 2G051CB01 , 2G051CB06 , 2G051DA08 , 2G051EA17 , 4M106AA01 , 4M106BA10 , 4M106BA20 , 4M106CA22 , 4M106CA39 , 4M106DB07 , 4M106DB15 , 4M106DB19

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開昭63-055445
特開平3-105239
特開昭63-305512

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