気相ラジカル重合方法およびそれにより得られるポリマー

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：青山葆 , 山本宗雄 , 後藤裕子
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2003569683
Publication number (International publication number)：2005517771
Application date： Feb. 18, 2003
Publication date： Jun. 16, 2005
Summary：

本発明は、気相ラジカル重合により新規のコポリマーを製造する新規の方法およびそのコポリマーの新規組成物に関する。

Claim (excerpt)：

(a)支持体上の少なくとも1種の開始剤および気相中の少なくとも1種のエチレン系不飽和モノマーを含有する系の存在下で、1種以上のラジカル重合性モノマーをラジカル重合する工程、 (b)該重合反応が停止するように、該気相中の少なくとも1種のエチレン系不飽和モノマー濃度を低下する工程、および (c)該工程(a)の気相中の少なくとも1種のエチレン系不飽和モノマーとは異なる、気相中の少なくとも1種のエチレン系不飽和モノマーを反応器中へ導入する工程を含む、少なくとも2つの異なるエチレン系不飽和モノマーを反応器中でラジカル重合する方法。

IPC (2)：

C08F2/00 , C08F293/00

FI (2)：

C08F2/00 C , C08F293/00

F-Term (26)：

4J011CA01 , 4J011CA02 , 4J011CA03 , 4J011CA05 , 4J011CA08 , 4J011CA10 , 4J011CC07 , 4J011CC10 , 4J011QA01 , 4J011QA02 , 4J011QA03 , 4J011QA05 , 4J011QA09 , 4J011SA76 , 4J011SA79 , 4J026HA11 , 4J026HA22 , 4J026HA35 , 4J026HA38 , 4J026HB06 , 4J026HB10 , 4J026HB11 , 4J026HB35 , 4J026HB38 , 4J026HB45 , 4J026HE01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

国際公開第WO 00/11043号パンフレット
独国出願公開第198 05 085号明細書
国際公開第WO 98/01480号パンフレット

Cited by examiner (6)

特開平2-229839
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Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-266267 Applicant：アフィメトリックスインコーポレイテッド
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