Pat
J-GLOBAL ID:200903017385073939
波長変換結晶の育成方法及びこの方法から作られた結晶
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
須田 正義
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999049666
Publication number (International publication number):2000247791
Application date: Feb. 26, 1999
Publication date: Sep. 12, 2000
Summary:
【要約】【課題】 微小な散乱体が結晶に取込まれることがなく、入射光とSHG光の透過ロスを生ぜずに、結晶の損傷閾値を低下させない。【解決手段】 特定の位相整合方位に切出した種結晶10を用いて、波長変換結晶を育成する方法である。育成中相対湿度10%以下の乾燥ガスを融液21aに当るように育成炉20内に流す。波長変換結晶が四ほう酸リチウム単結晶であり、種結晶がc軸から74±5度だけ傾いた位相整合方位に切出されてチョクラルスキー法によりNd:YAGレーザの5倍波用波長変換結晶を育成する方法に適する。乾燥ガスが乾燥空気、乾燥アルゴン又は乾燥窒素である。
Claim (excerpt):
特定の位相整合方位に切出した種結晶(10)を用いて、波長変換結晶を育成する方法において、前記結晶を育成中相対湿度10%以下の乾燥ガスを融液(21a)に当るように育成炉(20)内に流すことを特徴とする波長変換結晶の育成方法。
IPC (4):
C30B 29/22
, C30B 15/00
, C30B 15/36
, G02F 1/35 505
FI (4):
C30B 29/22 C
, C30B 15/00 Z
, C30B 15/36
, G02F 1/35 505
F-Term (16):
2K002AB12
, 2K002CA02
, 2K002FA11
, 2K002FA30
, 2K002HA20
, 2K002HA32
, 4G077AA02
, 4G077AB04
, 4G077BD07
, 4G077CF10
, 4G077EA06
, 4G077EA07
, 4G077ED02
, 4G077HA01
, 4G077PA03
, 4G077PJ02
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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四ほう酸リチウム単結晶の育成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-033439
Applicant:三菱マテリアル株式会社
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光学用四ほう酸リチウム単結晶の育成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-062599
Applicant:三菱マテリアル株式会社
-
特開昭63-069796
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