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J-GLOBAL ID:200903017385073939

波長変換結晶の育成方法及びこの方法から作られた結晶

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 須田 正義
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999049666
Publication number (International publication number):2000247791
Application date: Feb. 26, 1999
Publication date: Sep. 12, 2000
Summary:
【要約】【課題】 微小な散乱体が結晶に取込まれることがなく、入射光とSHG光の透過ロスを生ぜずに、結晶の損傷閾値を低下させない。【解決手段】 特定の位相整合方位に切出した種結晶10を用いて、波長変換結晶を育成する方法である。育成中相対湿度10%以下の乾燥ガスを融液21aに当るように育成炉20内に流す。波長変換結晶が四ほう酸リチウム単結晶であり、種結晶がc軸から74±5度だけ傾いた位相整合方位に切出されてチョクラルスキー法によりNd:YAGレーザの5倍波用波長変換結晶を育成する方法に適する。乾燥ガスが乾燥空気、乾燥アルゴン又は乾燥窒素である。
Claim (excerpt):
特定の位相整合方位に切出した種結晶(10)を用いて、波長変換結晶を育成する方法において、前記結晶を育成中相対湿度10%以下の乾燥ガスを融液(21a)に当るように育成炉(20)内に流すことを特徴とする波長変換結晶の育成方法。
IPC (4):
C30B 29/22 ,  C30B 15/00 ,  C30B 15/36 ,  G02F 1/35 505
FI (4):
C30B 29/22 C ,  C30B 15/00 Z ,  C30B 15/36 ,  G02F 1/35 505
F-Term (16):
2K002AB12 ,  2K002CA02 ,  2K002FA11 ,  2K002FA30 ,  2K002HA20 ,  2K002HA32 ,  4G077AA02 ,  4G077AB04 ,  4G077BD07 ,  4G077CF10 ,  4G077EA06 ,  4G077EA07 ,  4G077ED02 ,  4G077HA01 ,  4G077PA03 ,  4G077PJ02
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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