超臨界乾燥装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：中村純之助 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997248672
Publication number (International publication number)：1999087306
Application date： Sep. 12, 1997
Publication date： Mar. 30, 1999
Summary：

【要約】【課題】洗浄、エッチング、および現像が可能で、パターン倒れ現象を起すことのない超臨界乾燥装置。【解決手段】撹拌機能を有する回転機構10a、10bにより、洗浄、エッチング、現像の各工程と、超臨界液体供給装置2からの超臨界液体導入による乾燥処理工程とを同一反応槽1内で行う。

Claim (excerpt)：

基板を収容する反応槽と、薬液を貯留する液体タンクと、超臨界液体を前記反応槽に供給する超臨界液体供給装置と、前記反応槽に設けられ前記液体タンクからの薬液を導入する少なくとも1つの薬液導入手段と、前記反応槽に設けられた薬液の排出手段と、前記超臨界液体の排出口と、前記反応槽の液体を撹拌する撹拌手段を備えることを特徴とする超臨界乾燥装置。

IPC (5)：

H01L 21/304 351 , C23F 1/08 , C23G 3/00 , F26B 5/02 , H01L 21/027

FI (5)：

H01L 21/304 351 Z , C23F 1/08 , C23G 3/00 Z , F26B 5/02 , H01L 21/30 570

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

マイクロメカニズム構成部品の乾燥方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-055551 Applicant：シーメンスアクチエンゲゼルシヤフト
半導体ウエーハの洗浄方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-178728 Applicant：住友シチックス株式会社

Return to Previous Page