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J-GLOBAL ID:200903017847791689
自己診断機能による高精度外観検査装置及びその制御方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
開口 宗昭
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999011439
Publication number (International publication number):2000216207
Application date: Jan. 20, 1999
Publication date: Aug. 04, 2000
Summary:
【要約】【課題】長時間を要する外観検査工程において生じた障害によるデータ損失などのリスクを未然に回避することができる高精度外観検査装置及びその制御方法を提供することを目的とする。【解決手段】画像処理ユニット9が複数のチャネル101を有し、CPU1が所定時間毎又は所定の検査単位毎に各機能のチェックを行う。その際、前記外観検査工程において障害が発生したときにそれまでの検査結果をメモリ8に保存して検査を終了し、前記障害の発生部位が画像処理ユニット9であれば、係る画像処理ユニット9の障害発生チャネルを切り離し、他のチャネルにて処理を行う。
Claim (excerpt):
CPUと、被検査部品を検査する光学系駆動機構を制御するためのデータを格納するメモリと、検査結果のデータを格納するメモリと、そのデータを処理する画像ユニットと、被検査部品の設計データを編集するデータベースアダプタとを有する外観検査装置において、画像処理ユニットが複数のチャネル構造を有することを特徴とする外観検査装置。
IPC (3):
H01L 21/66
, G01N 21/88
, G06T 7/00
FI (3):
H01L 21/66 J
, G01N 21/88 645 A
, G06F 15/62 405 A
F-Term (22):
2G051AA56
, 2G051AB03
, 2G051AB04
, 2G051CB01
, 2G051EA14
, 2G051EA19
, 2G051EA20
, 2G051EA30
, 4M106AA09
, 4M106BA20
, 4M106CA38
, 4M106DB20
, 4M106DB30
, 4M106DH12
, 4M106DH32
, 4M106DJ01
, 4M106DJ11
, 4M106DJ21
, 5B057AA03
, 5B057BA02
, 5B057CA12
, 5B057DA03
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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特開昭60-062122
-
画像処理装置及び画像処理方法及び半導体パッケージ外観検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-161785
Applicant:株式会社日立製作所, 日立米沢電子株式会社
-
パターン欠陥検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-217674
Applicant:株式会社ニコン
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