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J-GLOBAL ID：200903018100154864
超高分子量ポリエチレンへの無機膜形成方法
Inventor：
,
,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：
岸田 正行
, 水野 勝文
, 高野 弘晋
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005260369
Publication number (International publication number)：2007070700
Application date： Sep. 08, 2005
Publication date： Mar. 22, 2007
Summary：
【課題】 超高分子量ポリエチレンにダイヤモンドライクカーボン(DLC)膜を密着させて被覆させ、DLC膜の剥離を防止し、超高分子量ポリエチレンにDLCを成膜する。 【解決手段】 超高分子量ポリエチレンをプラズマ照射によって改質した後、表面改質した超高分子量ポリエチレン上にDLC膜を形成する。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
超高分子量ポリエチレンをプラズマ照射によって改質した後、前記超高分子量ポリエチレン上に無機膜を形成することを特徴とする超高分子量ポリエチレンへの無機膜形成方法。
IPC (1)：
FI (1)：
F-Term (6)：
4K030AA10
, 4K030BA28
, 4K030CA07
, 4K030DA02
, 4K030FA03
, 4K030JA01
Cited by applicant (1)
Cited by examiner (2)
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