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J-GLOBAL ID：200903018133714059

シリカ系耐洗浄性加工被膜の形成方法、および該方法により得られるシリカ系耐洗浄性加工被膜

Inventor： 藤井 恭 ,  佐藤 功 ,  渋谷 達彦
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (1)： 酒井 宏明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003372154
Publication number (International publication number)：2005136297
Application date： Oct. 31, 2003
Publication date： May. 26, 2005
Summary：

【課題】 選択的エッチング処理により加工され露出した部分が酸水溶液による洗浄耐性を有するシリカ系耐洗浄性加工被膜の形成方法を提供する。【解決手段】 基板上にシリカ系被膜形成用塗布液を塗布し、乾燥し、塗膜を形成する塗膜形成工程と、前記塗膜形成工程によって得られた前記塗膜に対し、加熱処理を施し、被膜を形成する第1の加熱処理工程と、前記被膜に対して選択的にエッチング処理を行なう選択的エッチング処理工程と、前記選択的エッチング処理後の前記被膜に対して、更に加熱処理を施して前記エッチング処理により露出された断面の硬化度を向上させる第2の加熱処理工程とを有することを特徴とする。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

基板上にシリカ系被膜形成用塗布液を塗布し、乾燥し、塗膜を形成する塗膜形成工程と、 前記塗膜形成工程によって得られた前記塗膜に対し、加熱処理を施し、被膜を形成する第1の加熱処理工程と、 前記被膜に対して選択的にエッチング処理を行なう選択的エッチング処理工程と、 前記選択的エッチング処理後の前記被膜に対して、更に加熱処理を施して前記エッチング処理により露出された断面の硬化度を向上させる第2の加熱処理工程と、 を有することを特徴とするシリカ系耐洗浄性加工被膜の形成方法。

IPC (2)：

H01L21/316 ,  H01L21/768

FI (2)：

H01L21/316 G ,  H01L21/90 Q

F-Term (20)：

5F033GG04 ,  5F033QQ09 ,  5F033QQ11 ,  5F033QQ19 ,  5F033QQ28 ,  5F033QQ74 ,  5F033QQ94 ,  5F033RR01 ,  5F033RR09 ,  5F033SS22 ,  5F033WW01 ,  5F033WW03 ,  5F033XX03 ,  5F058BA20 ,  5F058BC02 ,  5F058BD04 ,  5F058BF46 ,  5F058BH01 ,  5F058BJ02 ,  5F058BJ05

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• SiO2被膜の形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-120685   Applicant：東京応化工業株式会社
• シリカ系厚膜被膜形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-119993   Applicant：東京応化工業株式会社