Pat
J-GLOBAL ID:200903018426805920
欠陥検査装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
吉田 茂明 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999174951
Publication number (International publication number):2001004347
Application date: Jun. 22, 1999
Publication date: Jan. 12, 2001
Summary:
【要約】【課題】 検査対象に生じている欠陥を高精度に検出し得る欠陥検査装置を得る。【解決手段】 第1主制御部12は、反射率のウェハ面内における分布を作成し、これに基づいて照射光制御データD6を生成する。この照射光制御データD6は、ウェハ面内の全ての箇所で反射光L3の強度が平均値K2になるように照射光L2の強度を調整するための制御データである。フィルタ制御部14は、照射光制御データD6に基づいてフィルタ制御信号S2をフィルタ5に入力する。フィルタ5における照射光L1の透過率あるいは反射率は、フィルタ制御信号S2によって制御される。その結果、被検査ウェハ1からの反射光L4の強度は、ウェハ面内において均一に制御される。
Claim (excerpt):
検査対象の検査面に光を照射する光照射部と、前記検査面内における前記光の反射率の分布に基づいて、前記検査面で反射される反射光の強度を前記検査面に関して均一にするための照射光制御データを生成するデータ生成部と、前記光照射部から前記検査面に照射される前記光の強度を前記照射光制御データに基づいて制御する光強度制御部と、前記検査面で反射された前記反射光、若しくは前記光による前記検査面からの散乱光を受光することにより、前記検査面における欠陥の有無を検査する検査部とを備える欠陥検査装置。
IPC (2):
FI (2):
G01B 11/30 A
, G01N 21/88 645 A
F-Term (34):
2F065AA49
, 2F065BB02
, 2F065CC19
, 2F065FF44
, 2F065HH12
, 2F065JJ05
, 2F065JJ08
, 2F065JJ09
, 2F065JJ17
, 2F065JJ19
, 2F065JJ26
, 2F065LL24
, 2F065LL31
, 2F065LL53
, 2F065NN03
, 2F065NN16
, 2F065PP12
, 2F065QQ23
, 2F065QQ42
, 2F065RR09
, 2G051AA51
, 2G051AA61
, 2G051AB02
, 2G051BA20
, 2G051BB07
, 2G051CA02
, 2G051CA04
, 2G051CB01
, 2G051CB05
, 2G051DA07
, 2G051EA14
, 2G051EB01
, 2G051EB02
, 2G051EC03
Patent cited by the Patent: