Pat
J-GLOBAL ID:200903018487914373
複合膜
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
白井 重隆
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000184162
Publication number (International publication number):2002008447
Application date: Jun. 20, 2000
Publication date: Jan. 11, 2002
Summary:
【要約】【課題】 プロトン伝導性を損なうことなく、ガス遮断性を維持し、さらにスルホン化ポリアリーレンからなる膜の靱性を改善した複合膜を提供する。【解決手段】 プロトン伝導性を有するテトラフルオロエチレン共重合体からなる膜と、スルホン化ポリアリーレンからなる膜を積層してなる複合膜。
Claim (excerpt):
プロトン伝導性を有するテトラフルオロエチレン共重合体からなる膜とスルホン化ポリアリーレンからなる膜とが積層されてなる複合膜。
IPC (13):
H01B 5/02
, B01D 69/12
, B01D 71/36
, B01D 71/66
, C08F214/26
, C08F216/14
, C08G 61/12
, C08G 75/20
, C08J 5/12 CEU
, C08J 5/12 CEZ
, H01B 1/06
, C08L 27:18
, C08L 65:00
FI (13):
H01B 5/02 A
, B01D 69/12
, B01D 71/36
, B01D 71/66
, C08F214/26
, C08F216/14
, C08G 61/12
, C08G 75/20
, C08J 5/12 CEU
, C08J 5/12 CEZ
, H01B 1/06 A
, C08L 27:18
, C08L 65:00
F-Term (60):
4D006GA01
, 4D006MA03
, 4D006MA06
, 4D006MA11
, 4D006MA31
, 4D006MB16
, 4D006MB17
, 4D006MC30
, 4D006MC30X
, 4D006MC42X
, 4D006MC46
, 4D006MC48
, 4D006MC49
, 4D006MC54
, 4D006MC61
, 4D006MC61X
, 4D006MC74
, 4D006MC74X
, 4D006MC75
, 4D006NA10
, 4D006NA12
, 4D006NA46
, 4D006NA47
, 4D006NA63
, 4D006NA64
, 4D006NA66
, 4F071AA27A
, 4F071AA27B
, 4F071AA37A
, 4F071AA64A
, 4F071AA64B
, 4F071AA69A
, 4F071AA69B
, 4F071CB02
, 4F071CD03
, 4J030BA09
, 4J030BC08
, 4J030BC13
, 4J030BD03
, 4J030BF13
, 4J030BG06
, 4J032CA04
, 4J032CB03
, 4J032CB05
, 4J032CD09
, 4J032CE03
, 4J032CF01
, 4J032CG01
, 4J100AC26P
, 4J100AE38Q
, 4J100BA02Q
, 4J100BA17Q
, 4J100BA56Q
, 4J100BB13Q
, 4J100CA04
, 5G301CA30
, 5G301CD01
, 5G307BA07
, 5G307BB09
, 5G307BC10
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
-
高分子電解質およびイオン交換体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-191403
Applicant:東レ株式会社
-
イオン交換膜
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-232948
Applicant:三菱重工業株式会社
-
高分子電解質とその調製法
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平9-507173
Applicant:ヘキスト・リサーチ・アンド・テクノロジー・ドイチュラント・ゲーエムベーハー・ウント・コンパニー・カーゲー
-
膜形成材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-001062
Applicant:ジェイエスアール株式会社
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